GaN半导体材料综述
课程名称: 纳米功能材料与器件
学生姓名: XX
学院: 新材料技术研究院
学号: XXXX
班级: XXXX
任课老师: 顾有松
评分:
2015-12
目录
1前言 ................................................................................................................................ 2GaN材料的性能研究....................................................................................................
2.1物理性质...........................................................................................................
2.2化学性质...........................................................................................................
2.3电学性质...........................................................................................................
2.4光学性质........................................................................................................... 3GaN材料的制备............................................................................................................
3.1金属有机化学气相外延技术(MOCVD) .........................................................
3.2分子束外延(MBE) ...........................................................................................
3.3氢化物气相外延(HVPE).................................................................................. 4GaN材料的器件构建与性能........................................................................................
4.1GaN基发光二极管(LED)................................................................................
4.2GaN基激光二极管(LD) ..................................................................................
4.3GaN基电子器件 ..............................................................................................
4.4GaN基紫外光探测器 ...................................................................................... 5结论 ................................................................................................................................ 参考文献................................................................................................................................
1前言
继硅(Si)引导的第一代半导体和砷化镓(GaAs)引导的第二代半导体后,以碳化硅(SiC)、氮化镓(GaN)、氧化锌(ZnO)、金刚石、氮化铝(AlN)为代表的第三代半导体材料闪亮登场并已逐步发展壮大。
作为第三代半导体的典型代表,GaN材料是一种直接带隙以及宽带隙半导体材料。室温下其禁带宽度为3.4eV,具有高临界击穿电场、高电子漂移速度、高热导、耐高温、抗腐蚀、抗辐射等优良特性,是制作短波长发光器件、光电探测器以及高温、高频、大功率电子器件的理想材料。随着纳米技术的发展,III族氮化物一维纳米结构在发光二极管、场效应晶体管以及太阳能电池领域都具有极大的潜在应用。进入20世纪90年代以后,由于一些关键技术获得突破以及材料生长和器件工艺水平的不断提高,使GaN材料研究空前活跃,GaN基器件发展十分迅速。基于具有优异性质的纳米尺寸材料制造纳米器件是很有意义的,GaN纳米结构特别是纳米线是满足这种要求的一种很有希望的材料[1]。
本论文主要介绍了GaN材料的性能研究、制备方法研究、器件构建与性能三个方面的内容,并最后进行了总结性阐述,全面概括了GaN材料的基本内容。
2GaN材料的性能研究
2.1物理性质
GaN是一种宽带隙半导体材料,在室温下其禁带宽度约为3.4 eV;Ga和N原子之间很强的化学键,使其具有高达1700℃的熔点;电子漂移饱和速度高,且掺杂浓度对其影响不大;抗辐射、介电常数小、热产生率低和击穿电场高等特点。通常情况下GaN的晶体结构主要为六方纤锌矿结构和立方闪锌矿结构,前者为稳态结构,后者为亚稳态结构,在极端高压情况下也会表现为立方熔盐矿结构[2]。目前各种器件中使用到的都是六方GaN,其晶体结构如图2-1所示。
图2-1 GaN方纤锌矿结构(a)黑色为Ga原子,灰色为N原子;(b)Ga和N原子的成键形式2.2化学性质
GaN的化学性质非常稳定,在室温下它既不与水发生反应,也不和酸或碱发生化学反应,但能缓慢地溶解在热的碱性溶液中。由于GaN的稳定性,对其表面进行刻蚀是非常困难的。目前,在工业生产中主要采用等离子体刻蚀的方法对GaN的表面进行处理[2]。
2.3电学性质
电学性能是影响光电器件性能的主要因素。非故意掺杂的GaN一般为n型,其载流子浓度约为1014 cm3~1016 cm3。如此高的本征载流子浓度曾一度限制了GaN的P型掺杂,给GaN器件的应用带来了困难。到1989年H.Amano等人用电子束照射的方式获得了Mg掺杂的P型GaN,才使得GaN器件的应用有了很大的发展。另外,GaN材料具有较高的电子迁移率,适度掺杂的AlGaN/GaN结构电子迁移率更高,而且还具有高的电子漂移速度和较低的介电常数,是制作高频微波器件的重要材料。
2.4光学性质
GaN为直接宽带隙半导体材料,在室温下其发光波长为365 nm,位于蓝光波段。InN的禁带宽度为0.77 eV,GaN的禁带宽度为3.43 eV,AlN的禁带宽度为6.2 eV,通过在GaN中掺入不同组分的In和Al,GaN基材料的禁带宽度可以实现从0.77eV 到6.2 eV的连续变化,其发光波长实现200 nm~656nm的连续变化,覆盖了整个可见光区和近紫外光区,所以,非常适合制作各种发光器件,有可能成为太阳能光伏产业的重要材料。
3GaN材料的制备
要研发与制备高质量、高性能的InGaN/GaN器件,首先就要制备出高质量的GaN 材料。GaN在高温下分解为Ga和N2,常压下无法融化,只有在2200℃以上,6GPa 以上的N2压力下才能使GaN融化,所以传统直拉法和布里奇曼法都不能用来生长GaN单晶[3]。至今,GaN材料的获得仍然以异质外延技术生长为主,即通过在其它晶体衬底上实现。近年来,又有出现了一些较为简单的方法,包括磁控溅射、溶胶一凝胶、脉冲激光沉积和电泳沉积等。在GaN材料的外延生长方面,应用最广泛的外延生长技术主要有:金属有机化学气相外延技术(MOCVD)、分子束外延(MBE)、氢化物气相外延(HVPE)[4]。下面对这三种生长技术作简要概述。
3.1金属有机化学气相外延技术(MOCVD)
金属有机化学气相外延又称为金属有机气相外延(MOVPE),是一种利用有机金属热分解反应进行气相外延生长薄膜的化学气相沉积技术,是在薄膜生长的众多技术中最经常运用的技术之一,是目前生长Ⅲ族氮化物多层结构最主流的方法,也是目前唯一能制备出高亮度氮化物发光二极管并用于规模化商业生产的生长技术。
该方法以三甲基镓(TMGa)为有机镓源,氨气为氮源并以H2和N2或者这种两种气体的混合气体为载体,将反应物载入反应腔并在一定温度下发生反应,生成相应薄膜材料的分子团,在衬底表面上吸附、成核、生长,最后形成所需的外延层。此外,该沉积系统不需要超高真空,反应室可以扩展且设备维护简单,己被广泛应用于大面积、多片GaN外延片的工业生产中。
MOCVD法外延GaN的技术已经被广泛应用并部分实现产业化,但是仍存在一些制约因。首先,MOCVD设备本身价格非常昂贵,生产所使用的原料价格也非常昂贵且毒性大;其次,同HVPE一样需要较高温度使氨气发生解离,这就容易引起薄膜出现氮空位、碳污染以及内应力,从而影响薄膜的质量[5]。
3.2分子束外延(MBE)
分子束外延(MBE)是一种实验室常用的生长III族氮化物的传统方法,但其发展远落后于MOCVD技术,目前还处于发展的前期阶段。图3-1为MBE生长的简单示意图[6]。在高真空环境中反应物以分子束或者原子束的形式直接射到衬底上,经过氮化反应,生长具有一定趋向性的GaN薄膜。目前,采用MBE技术生长GaN材料主要有两种方法,其一为气源分子束外延(GSMBE),以单质金属Ga为Ga源,NH3为N源,在衬底表面发生化学反应形成GaN。这种方法的优点是生长温度较低,但较低的温度同样也会带来不利的影响,NH3的分解率很低导致与Ga源的反应速率很慢,产物内部分子移动性较差,晶体薄膜的质量不好。其二是金属有机分子束外延(MOMBE),以三甲基镓为Ga源以等离子体或离子源产生的N束流为N源,在衬底上形成GaN。这种方法解决了在低温条件下NH3的分解率低的问题,获得的GaN薄膜的晶体质量较好。
图3-1 MBE系统示意图[6]
MBE与MOCVD相比,它可以在较低温度下(500℃-800℃)实现GaN的生长,因此可以选用容易产生热损伤的材料如GaAs、γ-LiAlO2等作为衬底材料,但由于其生长速率低并且需要极高的真空度,因此不适合应用于工业生产。
3.3氢化物气相外延(HVPE)
最早被用来进行GaN外延生长的技术是氢化物气相外延(HVPE)技术。在氢化物气相外延技术中,III族源材料使用金属镓,V族源材料使用NH3,载气使用氮气,反应气体是HCl。反应气体和金属镓反应生成GaCl或GaCl3,GaCI与NH3反应生成
GaN然后沉积在衬底上。图3-2为HVPE生长的简单示意图。HVPE技术的特点是外
延生长速度非常快,薄膜的厚度非常难以精确控制,同时反应后生成的尾气会腐蚀
设备,所以该方法比较难以获得高质量的GaN薄膜。经过许多年的研究,人们对HVPE 技术进行不断的改进并取得了一定的效果[7]。
图3-2 HVPE系统示意图
HVPE技术的优势是设备简单,成本低,生长速率快,可以达到几百微米每小时;利用该方法也能够较容易的实现P型掺杂和n型掺杂;HVPE技术还可以用来生长高质量GaN基激光器材料的同质衬底。但HVPE技术生长异质结构材料比较困难,因
此发展比较缓慢。
4GaN材料的器件构建与性能
GaN材料既具有GaAs、InP等材料的高频率特性,又具有SiC的高击穿电压特性,在兼顾器件的频率和功率方面,优于其他材料,应用前景更好。开发GaN器件的主要方向是微波器件,如发光二极管、激光器和紫外探测器等[8]。另外,良好的衬底
绝缘性能和散热性能,有利于制作高温、大功率器件。目前已经成功开发了GaN基MESFET、HEMT、HBT和MOFET等器件[9]。
4.1GaN基发光二极管(LED)
由于LED显色性好、体积小、寿命长、响应速度快和高效节能等优点,己广泛
应用在光显示、交通信号灯、照明等领域,被称为新一代“绿色光源”。随着LED应
用的越来越广泛,光显示领域要求其有更好的显色性能,照明领域需要其具有更高
的转换效率,极端恶劣环境中的应用要求其具有较好的稳定性等。GaN作为直接跃
迁型半导体材料,具有禁带宽度大、电子饱和速率高、击穿电场高、热导率高以及
物理化学性质稳定等优点,被认为是制作LED器件的最佳材料。IMS Research 预测
分析,在LED电视、显示屏和普通照明领域,GaN(蓝/绿)LED的市场份额将快速
增长。
图4-1 GaN多量子阱蓝色发光二极管结构示意图
图4-1为GaN多量子阱蓝色发光二极管结构示意图。为了提高LED的发光效率和纯度,目前人们主要采用多量子阱结构作为发光区。2009年Q.Dail[1]等人采用InGaN/GaN多量子阱结构的LED,其位错密度只有5.3×108cm-2,内量子效率高达64%。
目前商业生产中的LED均采用多量子阱结构。随着LED技术的不断发展和各国政策的大力支持,LED将会有巨大的市场前景。
4.2GaN基激光二极管(LD)
在研究更高效GaN基蓝、绿光LED的同时,蓝光LD器件的开发也成为研究的重点,在信息的高密度光存储领域的应用较其它的激光器有着明显的优势,其存储密度能够达到1Gbs/cm2。日本Nichia公司在1996年先后实现了在室温条件下电注入GaN基LD脉冲和连续工作;Cree-Research公司最先实现了SiC上横向器件结构的蓝光激光器;富士通在此基础上成功研制了可在室温下连续激射的InGaN蓝光LD,为GaN基蓝光LD的大规模应用提供了有力的技术支持。GaN基蓝光LD的开发,使激光点径缩小40%左右,提高存储容量至少4倍以上。由于蓝光LD的市场潜力极大,许多大公司和研究机构都纷纷加入到开发GaN蓝光LD的行列中。此外,蓝光LD在水下光通信、探测器、激光打印、材料加工和环境污染监控等领域同样具有广阔的应用前景。
4.3GaN基电子器件
GaN具有热导率高、击穿电场高、载流子浓度高等优良性能,可以被用来制作微波高频器件及大功率高温电子器件。同GaAs器件相比,GaN的功率密度是其10倍。目前,随着MBE、MOCVD等外延技术的发展,通过生长多种GaN异质结构己成功开发GaN基MESFET、MODFET、HFET等场效应晶体管,在航空、石油勘探、自动化、通信等领域必将发挥着不可或缺的重要作用。
4.4GaN基紫外光探测器
与SiC、金刚石等半导体材料相比,GaN应用于紫外光探测器有诸多优势,如较高的量子效率、信号陡峭、噪声低、边带可调等优势,从而可以很好的提高紫外光探测的灵敏度;GaN作为直接带隙可调的III族氮化物,在365 nm紫外光波段有很敏锐的截止响应特征,在制作器件时可以降低对滤波器的要求;同时GaN基紫外光探测器在200-400 nm的波段能够实现对太阳盲区的紫外光探测,并且不受长波辐射的影响。因此GaN基紫外光探测器被广泛应用于空间通讯、臭氧监测、水银灯消毒监控、污染监测、激光探测器和火焰传感等方面。
5结论
本文对GaN材料进行了系统的介绍,对GaN材料的有了进一步的认识与了解。GaN材料的制备方法是丰富多样的,每种方法都有各自的优点和局限。GaN具有非常稳定的物理性质和化学性质,其良好的电学性质使得它非常适合制作各种发光器件,有可能成为太阳能光伏产业的重要材料。它因其光学特性而被广泛的用来制作发光二极管(LED)和激光二极管(LD)。在器件方面,还有GaN基电子器件、GaN基紫外光探测器等。总之,随着计算材料科学的不断完善和实验技术的不断改进,GaN 材料的研究必将取得更大的突破,在照明、显示、光探测、信息存储、航空航天等诸多领域的应用将会更加广泛。
参考文献
[1] 冯庆. GaN纳米线的制备及特性研究[D]. 西安电子科技大学, 2013.
[2] 翟化松. GaN及其掺杂材料的合成与性能研究[D]. 太原理工大学, 2014.
[3] 任孟德, 秦建新, 王金亮,等. GaN材料的应用及研究进展[J]. 超硬材料工程, 2013, 25(04):34-38.
[4] 蒋永志. GaN基蓝光LED的光学特性研究[D]. 山东大学, 2012.
[5] 张冠英, 梅俊平, 解新建. MOCVD外延生长GaN材料的技术进展[J]. 半导体技术, 2010, 35(03):201-204.
[6] 相崎尚昭, 吴明华. 分子束外延装置[J]. 微细加工技术, 1990, (1):56-62.
[7]Moon J Y, Kwon H Y, Shin M J, et al. Growth behavior of GaN nanoneedles with changing HCl/NH3 flow ratio[J]. Materials Letters, 2009, 63(30):2695–2697.
[8] 李振勇. GaN掺杂系统电子结构和光学性质的理论研究[D]. 曲阜师范大学, 2010.
[9] 徐永宽. GaN体单晶生长技术研究现状[J]. 半导体技术, 2007, (02):101-105.
[10] Dai Q, Schubert M F, Kim M H, et al. Internal quantum efficiency and nonradiative recombination coefficient of GaInN/GaN multiple quantum wells with different dislocation densities[J]. Applied Physics Letters, 2009, 94(11):111109-111109-3.
碳纳米材料综述 课程: 纳米材料 日期:2015 年12月
碳纳米材料综述 摘要:纳米材料是一种处于纳米量级的新一代材料,具有多种奇异的特性,展现特异的光、电、磁、热、力学、机械等物理化学性能,这使得纳米技术迅速地渗透到各个研究领域,引起了国内外众多的物理学家、化学家和材料学家的广泛关注,也成为当前世界最热门的科学研究热点。物理学家对纳米材料感兴趣是因为它具有独特的电磁性质,化学家是因为它的化学活性以及潜在的应用价值,材料学家所感兴趣的是它的硬度、强度和弹性。毫无疑问,基于纳米材料的纳米科技必将对当今世界的经济发展和社会进步产生重要的影响。因此,对纳米材料的科学研究具有非常重要的意义。其中,碳纳米材料是最热的科学研究材料之一。 我们知道,碳元素是自然界中存在的最重要的元素之一,具有sp、sp2、sp3等多种轨道杂化特性。因此,以碳为基础的纳米材料是多种多样的,包括常见的石墨和金刚石,还包括近几年比较热门的碳纳米管、碳纳米线、富勒烯和石墨烯等新型碳纳米材料。 关键词:纳米材料碳纳米材料碳纳米管富勒烯石墨烯 1.前言 从人类认识世界的精度来看,人类的文明发展进程可以划分为模糊时代(工业革命之前)、毫米时代(工业革命到20世纪初)、微米和纳米时代(20世纪40年代开始至今)。自20世纪80年代初,德国科学家Gleiter提出“纳米晶体材料’,的概念,随后采用人工制备首次获得纳米晶体,并对其各种物性进行系统的研究以来,纳米材料己引起世界各国科技界及产业界的广泛关注。纳米材料是指特征尺寸在纳米数量级(通常指1—100 nm)的极细颗粒组成的固体材料。从广义上讲,纳米材料是指三维空间尺寸中至少有一维处于纳米量级的材料。通常分为零维材料(纳米微粒),一维材料(直径为纳米量级的纤维),二维材料(厚度为纳米量级的薄膜与多层膜),以及基于上述低维材料所构成的固体。从狭义上讲,则主要包括纳米微粒及由它构成的纳米固体(体材料与微粒膜)。纳米材料的研究是人类认识客观世界的新层次,是交叉学科跨世纪的战略科技领域[1]。 碳纳米材料主要包括富勒烯、碳纳米管和石墨烯等,是纳米科学技术中不可或缺的材料,从1985年富勒烯(Fullerene)的出现到1991年碳纳米管(carbon nanotube,CNTs)的发现,碳纳米材料所具有的独特物理和化学性质引起了国内外研究人员广泛而深入的研究,二十年来取得了很多的成果。2004 年Geim研究组的报道使得石墨烯(Graphene)成为碳纳米材料新一轮的研究热点,其出现充实了碳纳米材料家族,石墨烯具有由碳原子组成的单层蜂巢状二维结构,由于它只有一个原子的厚度,可以将其视为形成其它各种维度的石墨相关结构碳材料的基本建筑块,石墨烯既可翘曲形成零维的富勒烯及卷曲形成一维的碳纳米管,亦可面对面堆积形成石墨,由于石墨烯具有优异的电学、导热和机械性能及较大的比表面积,因而在储氢材料、超级电容器、高效催化剂及纳米生物传感等方面有着广泛的应用[2]。 2.常见的碳纳米材料
姓名:欧阳一鸣学号:2013012532 班级:高材 1313
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结构材料能够通过简单地自组装过程而形成,也就是说,这种结构能够在没有外界干涉的状态下,通过它们自身的组装而产生。因此,自组装是制备纳米结构的几种为数不多的方法之一[2 ] ,它已成为纳米科技一个重要的核心理论和技术。纳米材料因其尺寸上的微观性,从而表现出特殊的光、电、磁及界面特性。这些特性使得纳米材料广泛应用于各种领域:涂料 [5 ]、催化剂[6-7] 、电化学[8] 、光化学[ 9]及材料科学[10-12 ](如光电子器件)。 2 自组装单层膜 分子与生物分子膜正在被广泛应用到许多研究领域。自组装单层膜就是其中的一个研究重点。它是分子通过化学键相互作用,自发吸附在固/ 液或固/ 气界面,形成热力学稳定和能量最低的有序膜。在适当的条件下,自组装单层膜可以通过不同类型的分子和衬底来制备,常用的衬底有Au (111) 、Pt(111) 、Ag 、Al 、Si 、云母、玻璃等。 目前,研究最多的自组装单层膜可以分为三种类型[13 ] :由脂肪酸自组装的单层膜; 由有机硅及其衍生物自组装的单层膜;烷烃硫醇在金表面自组装的单层膜。它们的原理很简单,一个烷烃长链分子 (带有10~20 个亚甲基单元) ,其头部基团吸附到所用的衬底上,如硫醇(S —H) 头部基团和Au (111) 衬底已被证明可以进行完美的结合,它代表了一种控制表面性质的模式。硫醇分子在溶液中很容易吸附到金衬底上,形成一密集的单层,尾部基团从表面伸向外部,通过应用带有不同尾基的硫醇分子,化学样品的表面功能可以在很大范围内进行调节。自组装单层膜有着广泛的应用,如电子传输的研究、生物
纳米磁性材料的制备和研究进展综述 一.前言 纳米材料又称纳米结构材料 ,是指在三维空间中至少有一维处于纳米尺度范围内的材料 (1-100 nm) ,或由它们作为基本单元构成的材料 ,是尺寸介于原子、分子与宏观物体之间的介观体系。磁性材料是由铁磁性物质或亚铁磁性物质组成的,在外加磁场H 作用下,必有相应的磁化强度M 或磁感应强度B,它们随磁场强度H 的变化曲线称为磁化曲线(M~H或B~H曲线)。因此 ,纳米磁性材料的特殊磁性可以说是属于纳米磁性。 司马迁《史记》记载黄帝作战所用的指南针是人类首次对磁性材料的应用。而今纳米磁性材料广泛应用于生物学,磁流体力学,原子核磁学,机体物理学,磁化学,
天文学,磁波电子学等方面。随着雷达、微波通信、电子对抗和环保等军用、民用科学技术的,微波吸收材料的应用日趋广泛 ,磁性纳米吸波材料的研究受到人们的关注。纳米磁性材料也对人们的生产与生活带来诸多的利益。 本次综述,主要针对磁性纳米材料的制备方法和研究进展两个问题进行阐述。首先,介绍磁性纳米材料的发展历史,可以追溯到黄帝时期。其次,介绍磁性纳米材料的分类。------再次,重点介绍磁性纳米材料是怎么制备的。其制备方法一般分为三大类:1.由上到下,即由大到小,将块材破碎成纳米粒子,或将大面积刻蚀成纳米图形等。2.由下到上,即由小到大,将原子,分子按需要生长成纳米颗粒,纳米丝,纳米膜或纳米粒子复合物 3. 气相法、液相法、固相法等。第四、介绍磁性纳米材来噢的现状和发展前景。最后,将全文主题扼要总结,并且找出研究的优缺点和差距,提出自己的见解。 二、主题 1、纳米磁性材料的发展史 磁性材料是应用广泛、品类繁多、与时俱进的一类功能材料,磁性是物质的基本属性之一。人们对物质磁性的认识源远流长,早在公元前四世纪,人们就发现了天然的磁石(磁铁矿Fe3O4),,据传说,那是黄帝大战蚩尤于涿鹿,迷雾漫天,伸手不见五指,黄帝利用磁石指南的特性,制备了能指示方向的原始型的指南器,遂大获全胜.古代取其名为慈石,所谓“慈石吸铁,母子相恋”十分形象地表征磁性物体间的互作用。人们对物质磁性的研究具有悠久的历史,是在十七世纪末期和十八世纪前半叶开始发展起来的。1788年,库仑(Coulomb)把他的二点电荷之间的相互作用力规律推广到二磁极之间的相互作用上。1820年,丹麦物理学家奥斯特(Oersted)发现了电流的磁效应;同年法国物理学家安培(Ampere)提出了分子电流假说,认为物质磁性起源于分子电流。
纳米材料的制备方法及其研究进展纳米材料的制备及其研究进展 摘要:综述了纳米材料的结构、性能及发展历史;介绍了纳米材料的制备方法及最新进展;概述了纳米材料在各方面的应用状况和前景;讨论了目前纳米材料制备中存在的问题。 关键词:纳米材料;结构与性能;制备技术;应用前景;研究进展 1 引言 纳米微粒是由数目极少的原子或分子组成的原子群或分子群,微粒具有壳层结构。由于微粒的表面层占很大比重,所以纳米材料实际是晶粒中原子的长程有序排列和无序界面成分的组合,纳米材料具有大量的界面,晶界原子达15%-50%。 这些特殊的结构使得纳米材料具有独特的体积效应、表面效应,量子尺寸效应、宏观量子隧道效应,从而使其具有奇异的力学、电学、磁学、热学、光学、化学活性、催化和超导性能等特性,使纳米材料在国防、电子、化工、冶金、轻工、航空、陶瓷、核技术、催化剂、医药等领域具有重要的应用价值,美国的“星球大战计划”、“信息高速公路”,欧共体的“尤里卡计划”等都将纳米材料的研究列入重点发展计划;日本在10年纳米微粒的制备方法 1 纳米微粒的制备方法一般可分为物理方法和化学方法。制备的关键是如何控制颗粒的大小和获得较窄且均匀的粒度分布。 1.1 物理方法 1.1.1 蒸发冷凝法
又称为物理气相沉积法,是用真空蒸发、激光、电弧高频感应、电子束照射等方法使原料气化或形成等离子体,然后在介质中骤冷使之凝结。特点:纯度高、结晶组织好、粒度可控;但技术设备要求高。根据加热源的不同有: (1)真空蒸发-冷凝法其原理是在高纯度惰性气氛(Ar,He)下,对蒸发物质进行真空加热蒸发,蒸气在气体介质中冷凝形成超细微粒。1984年Leiter[2]等首次用惰性气体沉积和原位成型方法,研制成功了Pd、Cu、Fe 等纳米级金属材料。1987 年Siegles[3]采用该法又成功地制备了纳米级TiO2 陶瓷材料。这种方法是目前制备纳米微粒的主要方法。特点:粒径可控,纯度较高,可制得粒径为5~10nm的微粒。但仅适用于制备低熔点、成分单一的物质,在合成金属氧化物、氮化物等高熔点物质的纳米微粒时还存在局限性。 (2)激光加热蒸发法是以激光为快速加热源,使气相反应物分子是利用高压气体雾化器将-20~-40OC的氦气和氩气以3倍于音速的速度射入熔融材料的液流是以高频线圈为热源,使坩埚是用等离子体将金属等的粉末熔融、蒸发和冷凝以获得纳米微粒。特点:微粒纯度较高,粒度均匀,是制备氧化物、氮化物、碳化物系列、金属系列和金属合金系列纳米微粒的最有效的方法,同时为高沸点金属纳米微粒的制备开辟了前景。但离子枪寿命短、功率小、热效率低。目前新开发出的电弧气化法和混合等离子体法有望克服以上缺点。 (6)电子束照射法1995年许并社等人[4]利用高能电子束照射母材,成功地获 得了表面非常洁净的纳米微粒,母材一般选用该金属的氧化物,如用电子束照射 Al2O3 后,表层的Al-O 键被高能电子“切断”,蒸发的Al原子通过瞬间冷凝,形核、长大,形成Al的纳米微粒,但目前该方法获得的纳米微粒限于金属纳 米微粒。 1.1.2 物理粉碎法
三维纳米材料制备技术综述 摘要:纳米材料的制备方法甚多。目前,制备纳米材料中最基本的原则有二:一是将大块固体分裂成纳米微粒;二是由单个基本微粒聚集,并控制聚集微粒的生长,使其维持在纳米尺寸。本文主要介绍纳米材料分类和性能,同时介绍了一些三维纳米材料的制备方法,如水热法、溶剂热法和微乳液法。 关键词:纳米材料;纳米器件;纳米阵列;水热法;溶剂热法;微乳液法 1.引言 随着信息科学技术的飞速发展,人们对物质世界认识随之也从宏观转移到了微观,也就是说从宏观的块体材料转移到了微观的纳米材料。所谓纳米材料,是材料尺寸在三维空间中,至少有一个维度处于纳米尺度范围的材料。如果按照维度的数量来划分,纳米材料的的种类基本可以分为四类:(1)零维,指在空间中三维都处在纳米尺度,如量子点,尺度在纳米级的颗粒等;(2)—维,指在空间中两个维度处于纳米尺度,还有一个处于宏观尺度的结构,例如纳米棒、纳米线、纳米管等;(3)二维,是指在空间中只有一个维度处于纳米尺度,其它两个维度具有宏观尺度的材料,典型的二维纳米材料具有层状结构,如多层膜结构、一维超晶格结构等;(4)三维,即在空间中三维都属于宏观尺度的纳米材料,如纳米花、纳米球等各种形貌[1]。 当物质进入纳米级别,其在催化、光、电和热力学等方面都出现特异性,这种现象被称为“纳米效应”。纳米材料具有普通材料所不具备的3大效应:(1)小尺寸效应——其光吸收、电磁、化学活性、催化等性质发生很大变化;(2)表面效应——在催化、吸附等方面具有常规材料无法比拟的优越性;(3)宏观量子隧道效应,例如纳米微粒表现出令人难以置信的奇特的宏观物理特性,如高强度和高韧性,高热膨胀系数、高比热容和低熔点,异常的导电率和磁化率,极强的吸波性,高扩散性,以及高的物理、化学和生物活性等[2]。 纳米科学发展前期,人们更多关注于一维纳米材料,并研究其基本性能。随着纳米科学快速发展,当今研究热点开始转向以微纳结构和纳米结构器件为方向的对纳米阵列组装体系的研究。以特定尺寸和形貌的一维纳米材料为基本单元,采用物理和化学的方法在两维或三维空间内构筑纳米体系,可得到包括纳米阵
纳米材料综述 一、基本定义 1990年7月,第一届国际纳米科学技术会议在美国巴尔的摩举办,标志着 纳米科学技术的正式诞生。 1、纳米 纳米是一种长度单位,1纳米=1×10-9米,即1米的十亿分之一,单位符 号为 nm。 2、纳米技术 纳米技术是在单个原子、分子层次上对物质的种类、数量和结构形态进行 精确的观测、识别和控制的技术,是在纳米尺度范围内研究物质的特性和 相互作用,并利用这些特性制造具有特定功能产品的多学科交叉的高新技 术。其最终目标是人类按照自己的意志直接操纵单个原子、分子,制造出 具有特定功能的产品。 纳米技术的发展大致可以划分为3个阶段: 第一阶段(1990年即在召开“Nano 1”以前主要是在实验室探索各种纳米粉体的制备手段,合成纳米块体(包括薄膜,研究评估表征的方法,探索纳米材料的特殊性能。研究对象一般局限于纳米晶或纳米相材料。 第二阶段 (1990年~1994年人们关注的热点是设计纳米复合材料: ?纳米微粒与纳米微粒复合(0-0复合, ?纳米微粒与常规块体复合(0-3复合, ?纳米复合薄膜(0-2复合。 第三阶段(从1994年至今纳米组装体系研究。它的基本内涵是以纳米颗粒 以及纳米丝、管等为基本单元在一维、二维和三维空间组装排列成具有纳米结构的体系的研究。 3、纳米材料 材料基本构成单元的尺寸在纳米范围即1~100纳米或者由他们形成的材料就称为纳米 材料。纳米材料和宏观材料迥然不同,它具有奇特的光学、电学、磁学、热学和力学等方面的性质。
图1 纳米颗粒材料SEM图 二、纳米材料的基本性质 由于纳米材料是由相当于分子尺寸甚至是原子尺寸的微小单元组成,也正因为这样,纳米材料具有了一些区别于相同化学元素形成的其他物质材料特殊的物理或是化学特性例如:其力学特性、电学特性、磁学特性、热学特性等,这些特性在当前飞速发展的各个科技领域内得到了应用。科学家们和工程技术人员利用纳米材料的特殊性质解决了很多技术难题,可以说纳米材料特性促进了科技进步和发展。 1、力学性质 高韧、高硬、高强是结构材料开发应用的经典主题。具有纳米结构的材料强度与粒径成反比。纳米材料的位错密度很低,位错滑移和增殖符合Frank-Reed模型,其临界位错圈的直径比纳米晶粒粒径还要大,增殖后位错塞积的平均间距一般比晶粒大,所以纳米材料中位错滑移和增殖不会发生,这就是纳米晶强化效应。金属陶瓷作为刀具材料已有50多年历史,由于金属陶瓷的混合烧结和晶粒粗大的原因其力学强度一直难以有大的提高。应用纳米技术制成超细或纳米晶粒材料时,其韧性、强度、硬度大幅提高,使其在难以加工材料刀具等领域占据了主导地位。使用纳米技术制成的陶瓷、纤维广泛地应用于航空、航天、航海、石油钻探等恶劣环境下使用。 2、热学性质 纳米材料的比热和热膨胀系数都大于同类粗晶材料和非晶体材料的值,这是由于界面原子排列较为混乱、原子密度低、界面原子耦合作用变弱的结果。因此在储热材料、纳米复合材料的机械耦合性能应用方面有其广泛的应用前景。例如Cr-Cr2O3颗粒膜对太阳光有强烈的吸收作用,从而有效地将太阳光能转换为热能。 3、电学性质 由于晶界面上原子体积分数增大,纳米材料的电阻高于同类粗晶材料,甚至发生尺寸诱导金属——绝缘体转变(SIMIT)。利用纳米粒子的隧道量子效应和库仑堵塞效应制成的纳米电子器件具有超高速、超容量、超微型低能耗的特点,有可能在不久的将来全面取代目前的常规半导体器件。2001年用碳纳米管制成的纳米晶体管,表现出很好的晶体三极管放大特性。并根据低温下碳纳米管的三极管放大特性,成
关于碳纳米管的研究进展 1、前言 1985年9月,Curl、Smally和Kroto发现了一个由个60个碳原子组成的完美对称的足球状分子,称作为富勒烯。这个新分子是碳家族除石墨和金刚石外的新成员,它的发现刷新了人们对这一最熟悉元素的认识,并宣告一种新的化学和全新 的“大碳结构”概念诞生了。之后,人们相继发现并分离出C 70、C 76 、C 78 、C 84 等。 1991年日本的Iijima教授用真空电弧蒸发石墨电极时,首次在高分辨透射电子显微镜下发现了具有纳米尺寸的碳的多层管状物—碳纳米管。年,日本公司的科学家和匆通过改进电弧放电方法,成功的制备了克量级的碳纳米管。1993年,通过在电弧放电中加入过渡金属催化剂,NEC和IBM研究小组同时成功地合成了单壁碳纳米管;同年,Yacaman等以乙炔为碳源,用铁作催化剂首次针对性的由化学气相沉积法成功地合成了多壁碳纳米管。1996年,我国科学家实现了碳纳米管的大面积定向生长。1998年,科研人员利用碳纳米管作电子管阴极同年,科学家使用碳纳米管制作室温工作的场效应晶体管;中国科学院金属研究所成会明研究小组采用催化热解碳氢化合物的方法得到了较高产率的单壁碳纳米管和由多根单壁碳纳米管形成的阵列以及由该阵列形成的数厘米长的条带。1999年,韩国的一个研究小组制成了碳纳米管阴极彩色显示器样管。2000年,日本科学家制成了高亮度的碳纳米管场发射显示器样管。2001年,Schlitter等用热解有纳米图形的前驱体,通过自组装合成了单壁碳纳米管单晶,表明已经可以在微米级制得整体材料的单壁碳纳米管,并为宏量制备指出了方向。 2、碳纳米管的制备方法 获得大批量、管径均匀和高纯度的碳纳米管,是研究其性能及应用的基础。而大批量、低成本的合成工艺是碳纳米管实现工业化应用的保证。因此对碳纳米管制备工艺的研究具有重要的意义。目前,常用的制备碳纳米管的方法包括石墨电弧法、化学气相沉积法和激光蒸发法。一般来说,石墨电弧法和激光蒸发法制备的碳纳米管纯度和晶化程度都较高,但产量较低。化学气相沉积法是实现工业化大批量生产碳纳米管的有效方法,但由于生长温度较低,碳纳米管中通常含有
北京化工大学北方学院NORTH COLLEGE OF BEIJING UNIVERSITY OF CHEMICAL TECHNOLOGY 碳纳米管的性质与应用 姓名:赵开 专业:应用化学 班级: 0804 学号: 080105097 2011年05月
文献综述 前言 本人论题为《碳纳米管的性质与应用》。碳纳米管是一维碳基纳米材料,其径向尺寸为纳米级,轴向尺寸为微米量级,管子两端基本上都封口。碳纳米管具有尺寸小、机械强度高、比表面大、电导率高、界面效应强等力学,电磁学特点。近年来,碳纳米管在力学、电磁学、医学等方面得到了广泛应用。 本文根据众多学者对碳纳米管的研究成果,借鉴他们的成功经验,就碳纳米管的性质及其功能等方面结合最新碳纳米管的应用做一些简要介绍。本文主要查阅近几年关于碳纳米管相关研究的文献期刊。
碳纳米管(CNT)是碳的同素异形体之一,是由六元碳环构成的类石墨平面卷曲而成的纳米级中空管,其中每个碳原子通过SP2杂化与周围3个碳原子发生完全键合。碳纳米管是由一层或多层石墨按照一定方式卷曲而成的具有管状结构的纳米材料。由单层石墨平面卷曲形成单壁碳纳米管(SWNT),多层石墨平面卷曲形成多壁碳纳米管(MWNT)。自从1991年日本科学家lijima发现碳纳米管以来,其以优异的力学、热学以及光电特性受到了化学、物理、生物、医学、材料等多个领域研究者的广关注。 一、碳纳米管的性质 碳纳米管的分类 研究碳纳米管的性质首先要对其进行分类。(1)按照石墨层数分类,碳纳米管可分为单壁碳纳米管和多壁碳纳米管。(2)按照手性分类,碳纳米管可分为手性管和非手性管。其中非手性管又可分为扶手椅型管和锯齿型管。(3)按照导电性能分类,碳纳米管可分为导体管和半导体管。 碳纳米管的力学性能 碳纳米管无缝管状结构和管身良好的石墨化程度赋予了碳纳米管优异的力学性能。其拉伸强度是钢的100倍,而质量只有钢的1/ 6,并且延伸率可达到20 %,其长度和直径之比可达100~1000,远远超出一般材料的长径比,因而被称为“超强纤维”。碳纳米管具有如此优良的力学性能是一种绝好的纤维材料。它具有碳纤维的固有性质,强度及韧性均远优于其他纤维材料[1]。单壁碳纳米管的杨氏模量在1012Pa范围内,在轴向施加压力或弯曲碳纳米管时,当外力大于欧拉强度极限或弯曲强度,它不会断裂而是先发生大角度弯曲然后打卷形成麻花状物体,但是当外力释放后碳纳米管仍可以恢复原状。 碳纳米管的电磁性能
纳米材料的发展及研究现状 在充满生机的21世纪,信息、生物技术、能源、环境、先进制造技术和国防的高速发展必然对材料提出新的需求,元件的小型化、智能化、高集成、高密度存储和超快传输等对材料的尺寸要求越来越小;航空航天、新型军事装备及先进制造技术等对材料性能要求越来越高。新材料的创新,以及在此基础上诱发的新技术。新产品的创新是未来10年对社会发展、经济振兴、国力增强最有影响力的战略研究领域,纳米材料将是起重要作用的关键材料之一。 纳米材料和纳米结构是当今新材料研究领域中最富有活力、对未来经济和社会发展有着十分重要影响的研究对象,也是纳米科技中最为活跃、最接近应用的重要组成部分。近年来,纳米材料和纳米结构取得了引人注目的成就。例如,存储密度达到每平方厘米400g的磁性纳米棒阵列的量子磁盘,成本低廉、发光频段可调的高效纳米阵列激光器,价格低廉高能量转化的纳米结构太阳能电池和热电转化元件,用作轨道炮道轨的耐烧蚀高强高韧纳米复合材料等的问世,充分显示了它在国民经济新型支柱产业和高技术领域应用的巨大潜力。正像美国科学家估计的“这种人们肉眼看不见的极微小的物质很可能给予各个领域带来一场革命”。 纳米材料和纳米结构的应用将对如何调整国民经济支柱产业的布局、设计新产品、形成新的产业及改造传统产业注入高科技含量提供新的机遇。研究纳米材料和纳米结构的重要科学意义在于它开辟了人们认识自然的新层次,是知识创新的源泉。由于纳米结构单
元的尺度(1~100urn)与物质中的许多特征长度,如电子的德布洛意波长、超导相干长度、隧穿势垒厚度、铁磁性临界尺寸相当,从而导致纳米材料和纳米结构的物理、化学特性既不同于微观的原子、分子,也不同于宏观物体,从而把人们探索自然、创造知识的能力延伸到介于宏观和微观物体之间的中间领域。在纳米领域发现新现象,认识新规律,提出新概念,建立新理论,为构筑纳米材料科学体系新框架奠定基础,也将极大丰富纳米物理和纳米化学等新领域的研究内涵。世纪之交高韧性纳米陶瓷、超强纳米金属等仍然是纳米材料领域重要的研究课题;纳米结构设计,异质、异相和不同性质的纳米基元(零维纳米微粒、一维纳米管、纳米棒和纳米丝)的组合。纳米尺度基元的表面修饰改性等形成了当今纳米材料研究新热点,人们可以有更多的自由度按自己的意愿合成具有特殊性能的新材料。利用新物性、新原理、新方法设计纳米结构原理性器件以及纳米复合传统材料改性正孕育着新的突破。1研究形状和趋势纳米材料制备和应用研究中所产生的纳米技术很可能成为下一世纪前20年的主导技术,带动纳米产业的发展。世纪之交世界先进国家都从未来发展战略高度重新布局纳米材料研究,在千年交替的关键时刻,迎接新的挑战,抓紧纳米材料和柏米结构的立项,迅速组织科技人员围绕国家制定的目标进行研究是十分重要的。纳米材料诞生州多年来所取得的成就及对各个领域的影响和渗透一直引人注目。进入90年代,纳米材料研究的内涵不断扩大,领域逐渐拓宽。一个突出的特点是基础研究和应用研究的衔接十分紧密,实验室成果的转化速度之快出乎人们预料,基
纳米材料制备方法综述 摘要:纳米材料由于其特殊性质,近年来受到人们极大的关注。随着纳米科技的发展,纳米材料的制备方法已日趋成熟。纳米材料的制备方法按物态一般可归纳为气相法、液相法、固相法。目前,各国科学家在纳米材料的研究方面已取得了显著的成果。纳米材料将推动21世纪的信息技术、医学、环境、自动化技术及能源科学的发展, 对生产力的发展产生深远的影响。 关键字:纳米材料,制备,固相法,液相法,气相法 近年来,纳米材料作为一种新型的材料得到了人们的广泛关注。纳米材料是指任意一维的尺度小于100nm的晶体、非晶体、准晶体以及界面层结构的材料,具有表面与界面效应,量子尺寸效应,小尺寸效应和宏观量子隧道效应,因而纳米具有很多奇特的性能,广泛应用于各个领域。为此,本文综述了纳米材料制备的各种方法并说明其优缺点。 目前纳米材料制备采用的方法按物态可分为:气相法、液相法和固相法。 一、气相法 气相法是将高温的蒸汽在冷阱中冷凝或在衬底上沉积和生长低维纳米材料的方法。气相法主要包括物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD),在某些情况下使用其他热源获得气源,如电阻加热法,高频感应电流加热法,混合等离子加热法,通电加热蒸发法。 1、物理气相沉积(PVD) 在PVD过程中没有化学反应产生,其主要过程是固体材料的蒸发和蒸发蒸气的冷凝或沉积。采用PVD可制备出高质量的纳米材料粉体。PVD可分为制备出高质量的纳米粉体。PVD可分为蒸气-冷凝法和溅射法。 1.1蒸气-冷凝法 此种制备方法是在低压的Ar、He等惰性气体中加热物质(如金属等),使其蒸发汽化, 然后在气体介质中冷凝后形成5-100 nm的纳米微粒。通过在纯净的惰性气体中的蒸发和冷凝过程获得较干净的纳米粉体。此方法制备的颗粒表面清洁,颗粒度整齐,生长条件易于控制,但是粒径分布范围狭窄。 1.2溅射法 用两块金属板分别作为阳极和阴极,阴极为蒸发用的材料,在两电极间充入Ar气(40~250Pa),两电极间施加的电压范围为0.3~1.5kv。由于两极间的辉光放电使Ar离子形成,在电场的作用下Ar离子冲击阴极靶材表面,使靶材原产从其表面蒸发出来形成超微粒子.并在附着面上沉积下来。用溅射法制备纳米微粒有许多优点:可制备多种纳米金属,包括高熔
纳米材料综述 1 引言 纳米材料是指晶粒尺寸为纳米级(10-9米)的超细材料,它的微粒尺寸大于原子簇,小于通常的微粒,一般为100一102nm。它包括体积分数近似相等的两个部分:一是直径为几个或几十个纳米的粒子;二是粒子间的界面。前者具有长程序的晶状结构,后者是既没有长程序也没有短程序的无序结构。 1984年德国萨尔兰大学的Gleiter以及美国阿贡试验室的Siegel相继成功地制得了纯物质的纳米细粉。Gleiter在高真空的条件下将粒径为6nm的Fe粒子原位加压成形,烧结得到纳米微晶块体,从而使纳米材料进入了一个新的阶段。1990年7月在美国召开的第一届国际纳米科学技术会议,正式宣布纳米材料科学为材料科学的一个新分支。从材料的结构单元层次来说,它介于宏观物质和微观原子、分子的中间领域。在纳米材料中,界面原子占极大比例,而且原子排列互不相同,界面周围的晶格结构互不相关,从而构原子排列互不相同,界面周围的晶格结构互不相关,从而构. 在纳米材料中,纳米晶粒和由此而产生的高浓度晶界是它的两个重要特征。纳米晶粒中的原子排列已不能处理成无限长程有序,通常大晶体的连续能带分裂成接近分子轨道的能级,高浓度晶界及晶界原子的特殊结构导致材料的力学性能、磁性、介电性、超导性、光学乃至热力学性能的改变。纳米相材料和其他固体材料都是由同样的原子组成,只不过这些原子排列成了纳米级的原子团,成为组成这些新材料的结构粒子或结构单元。其常规纳米材料中的基本颗粒直径不到l00nm,包含的原子不到几万个。一个直径为3nm的原子团包含大约900个原子,几乎是英文里一个句点的百万分之一,这个比例相当于一条300多米长的帆船跟整个地球的比例。 2 纳米材料特性 一般在宏观领域中,某种物质固体的理化特性与该固体的尺度大小无关。当物质颗粒小于100 nm时,物质本身的许多固有特性均发生质的变化。这种现象称为“纳米效应”。纳米材料具有三大效应:表面效应、小尺寸效应和宏观量子隧道效应。 2.1表面效应 纳米材料的表面效应是指纳米粒子的表面原子数与总原子数之比随粒径的变小而急剧增大后所引起的性质上的变化。随着粒径变小,表面原子所占百分数将会显著增加。当粒径降到1 nm时,表面原子数比例达到约90%以上,原子几乎全部集中到纳米粒子表面。由于纳米粒子表面原子数增多,表面原子配位数不足和高的表面能,使这些原子易与其它原子相结合而稳定下来,故具有很高的化学活性。 2.2小尺寸效应 由于颗粒尺寸变小所引起的宏观物理性质的变化称为小尺寸效应。对超微颗粒而言,尺寸变小,比表面积增加,从而产生一系列新奇的性质: 1)特殊的光学性质:纳米金属的光吸收性显著增强。粒度越小,光反射率越低。所有的金属在超微颗粒状态都呈现为黑色。尺寸越小,颜色愈黑。金属超微颗粒对光的反射率通常可低于l%,约几微米的厚度就能完全消光。相反,一些
碳纳米管综述 摘要:本文主要介绍碳纳米管的发现及发展过程,并说明碳纳米管的制备方法及其制备技术。同时也叙述碳纳米管的各种性能与应用。 引言:在1991年日本NEC公司基础研究实验室的电子显微镜专家饭岛在高分辨透射电子显微镜下检验石墨电弧设备中产生的球状碳分子时,意外发现了由管状的同轴纳米管组成的碳分子,这就是现在被称作的“Carbon nanotube”,即碳纳米管,又名巴基管。 正文: 碳纳米管的制备: 碳纳米管的合成技术主要有:电弧法、激光烧蚀(蒸发)法、催化裂解或催化化学气相沉积法(CCVD,以及在各种合成技术基础上产生的定向控制生长法等。电弧法 利用石墨电极放电获得碳纳米管是各种合成技术中研究得最早的一种。研究者在优化电弧放电法制取碳纳米管方面做了大量的工作。 T. W. Ebbeseo[2]在He保护介质中石墨电弧放电,首次使碳纳米管的合成达到了克量级。为减少相互缠绕的碳纳米管在阴极上的烧结,D.T.Collbert[3]将石墨阴极与水冷铜阴极座连接,大大减少了碳纳米管缺陷。C. Journet[4]等在阳极中填人石墨粉末和铱的混合物,实现了SWNTs的大量制备。研究发现,铁组金属、一些稀土金属和铂族元素或以单个金属或以二金属混合物均能催化SWNTs 合成。 近年来,人们除通过调节电流、电压,改变气压及流速,改变电极组成,改进电极进给方式等优化电弧放电工艺外,还通过改变打弧介质,简化电弧装置。 综上所述,电弧法在制备碳纳米管的过程中通过改变电弧放电条件、催化剂、电极尺寸、进料方式、极间距离以及原料种类等手段而日渐成熟。电弧法得到的碳纳米管形直,壁簿(多壁甚至单壁).但产率偏低,电弧放电过程难以控制,制备成本偏高其工业化规模生产还需探索。 催化裂解法或催化化学气相沉积法(CCVD) 催化裂解法是目前应用较为广泛的一种制备碳纳米管的方法。该方法主要采用过渡金属作催化剂,适于碳纳米管的大规模制备,产物中的碳纳米管含量较高,但碳纳米管的缺陷较多。 催化裂解法制备碳纳米管所需的设备和工艺都比较简单,关键是催化剂的制备和分散。目前用催化裂解法制备碳纳米管的研究主要集中在以下两个方面:大规模制备无序的、非定向的碳纳米管;制备离散分布、定向排列的碳纳米管列阵。一般选用Fe, Co、Ni及其合金作催化剂,粘土、二氧化硅、硅藻土、氧化铝及氧化镁等作载体,乙炔、丙烯及甲烷等作碳源,氢气、氮气、氦气、氩气或氨气作稀释气,在530℃~1130℃范围内,碳氢化合物裂解产生的自由碳离子在催化剂作用下可生成单壁或多壁碳纳米管。1993年Yacaman等人[5]采用此方法,用Fe催化裂解乙炔,在770℃下合成了多壁碳纳米管,后来分别采用乙烯、聚乙烯、丙烯和甲烷等作为碳源,也都取得了成功。为使碳离子均匀分布,科研人员还用等离子加强或微波催化裂解气相沉积法制备碳纳米管。 激光蒸发法
文章编号:1004-3888(2003)05-0397-04 纳米材料研究综述 Ξ 张万忠,李万雄 (湖北农学院环境工程系,湖北荆州434025) 摘 要:综述了纳米材料的研究概况,介绍了纳米材料的研究现状、特点、结构、特性、制备 方法及其应用状况。 关键词:纳米材料;结构与特性;制备与应用中图分类号:O157 文献标志码:A 纳米材料是指微观结构至少在一维方向上受 纳米尺度调制的各种固态材料[1],其晶粒或颗粒尺寸在1~100nm 数量级,主要由纳米晶粒和晶粒界面两部分组成,其晶粒中原子的长程有序排列和无序界面成分的组成后有大量的界面(6×1025m 3/10nm 晶粒尺寸),晶界原子达15%~50%,且原子排列互不相同,界面周围的晶格原子 结构互不相关,使得纳米材料成为介于晶态与非 晶态之间的一种新的结构状态[2]。此外,由于纳米晶粒中的原子排列的非无限长程有序性,使得通常大晶体材料中表现出的连续能带分裂为接近分子轨道的能级。高浓度界面及原子能级的特殊结构,使其具有不同于常规材料和单个分子的性质如表面效应、体积效应、量子尺寸效应、宏观量子隧道效应等,导致了纳米材料的力学性能、磁性、介电性、超导性光学乃至力学性能发生改变,使之在电子学、光学、化工陶瓷、生物、医药等诸多方面具有重要价值,得到了广泛应用[3,4]。 1 纳米材料研究的现状与特点 1.1 纳米材料研究的现状 上世纪70年代纳米颗粒材料问世,80年代 中期在实验室合成了纳米块体材料,80年代中期以后,成为材料科学和凝聚态物理研究的前沿热点。可大致分为3个阶段;第一阶段(1990年以前),主要是在实验室探索用各种手段制备各种材 料的纳米颗粒粉体,合成块体(包括薄膜),研究评价表征的方法,探索纳米材料不同于常规材料的特殊性能;第二阶段(1994年前),人们关注的热点是如何利用纳米材料已挖掘出来的奇特的物理、化学和力学性能,设计纳米复合材料,通常采用纳米微粒与纳米微粒复合,纳米微粒与常规块体复合及发展复合纳米薄膜;第三阶段(从1994年到现在),纳米组装体系、人工组装合成的纳米结构的材料体系越来越受到人们的关注,正在成为纳米材料研究的新的热点。 1.2 纳米材料研究的特点 (1)纳米材料研究的内涵逐渐扩大 第一阶 段主要集中在纳米颗粒(纳米晶、纳米相、纳米非晶等)以及由它们组成的薄膜与块体,到第三阶段纳米材料研究对象发展到纳米丝、纳米管、微孔和介孔材料(包括凝胶和气凝胶)。 (2)纳米材料的概念不断拓宽 1994年以 前,纳米结构材料仅仅包括纳米微粒及其形成的纳米块体、纳米薄膜,现在纳米结构材料的含意还包括纳米组装体系,该体系除了包含纳米微粒实体的组元,还包括支撑它们的具有纳米尺度的空间基体,因此,纳米结构材料内涵变得丰富多彩。 (3)基础研究和应用研究并重 目前,基础研究和应用研究出现并行发展的新局面,纳米材料的应用成为人们关注的热点,纳米材料进入实用阶段,纳米材料及相应产品开始陆续进入市场。 Ξ 收稿日期:2003206206 第一作者简介:张万忠(1965-),男,河南罗山县人,理学硕士,湖北农学院环境工程系副教授. 第23卷 第5期Vol.23No.5 湖 北 农 学 院 学 报 Journal of Hubei Agricultural College 2003年10月Oct.2003
Elastomeric transparent capacitive sensors based on an interpenetrating composite of silver nanowires and polyurethane Weili Hu, Xiaofan Niu, Ran Zhao, and Qibing Pei Citation: Appl. Phys. Lett. 102, 083303 (2013); doi: 10.1063/1.4794143 View online: https://www.docsj.com/doc/c39827170.html,/10.1063/1.4794143 View Table of Contents: https://www.docsj.com/doc/c39827170.html,/resource/1/APPLAB/v102/i8 Published by the American Institute of Physics. Additional information on Appl. Phys. Lett. Journal Homepage: https://www.docsj.com/doc/c39827170.html,/ Journal Information: https://www.docsj.com/doc/c39827170.html,/about/about_the_journal Top downloads: https://www.docsj.com/doc/c39827170.html,/features/most_downloaded Information for Authors: https://www.docsj.com/doc/c39827170.html,/authors Downloaded 09 Apr 2013 to 210.34.5.240. This article is copyrighted as indicated in the abstract. Reuse of AIP content is subject to the terms at: https://www.docsj.com/doc/c39827170.html,/about/rights_and_permissions