超细氧化铝抛光液的制备及其抛光特性研究

超细氧化铝抛光液的制备及其抛光特性研究

雷红;褚于良;屠锡富;丘海能;方亮;罗桂海

【期刊名称】《功能材料》

【年(卷),期】2005(036)009

【摘要】化学机械抛光(CMP)技术广泛用于表面的超精加工,抛光液是CMP技术中的关键要素.本文制备了一种超细Al2O3抛光液,采用激光粒度仪、扫描电镜等对其进行了表征.进而研究了其在镍磷敷镀的硬盘基片CMP中的抛光特性.结果表明抛光液中Al2O3粒子用量、氧化剂用量均直接影响抛光后的表面质量及材料去除速率.借助对抛光后表面的原子力显微镜(AFM)、俄歇能谱以及X射线光电子能谱分析,对其CMP机理进行了推断.

【总页数】4页(1425-1428)

【关键词】化学机械抛光(CMP);硬盘基片;超细Al2O3粒子;抛光液

【作者】雷红;褚于良;屠锡富;丘海能;方亮;罗桂海

【作者单位】上海大学纳米科学与技术研究中心,上海200436;深圳开发磁记录有限公司,广东深圳518035

【正文语种】中文

【中图分类】TH117

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