单晶结构解析常见问题问答
1.为什么要提高空间群的对称性？
有时候在对称性较高的空间群内不容易解得初结构，在这种情况下可以降低对称性来解，但是解完以后还要把空间群转换回去。
1．1 先安装Platon
从其主页上下载https://www.docsj.com/doc/0717693022.html,/~louis/software/platon/
https://www.docsj.com/doc/0717693022.html,/~louis/software/platon/pwt_setup.zip
https://www.docsj.com/doc/0717693022.html,/~louis/software/platon/platon.zip
Download the PLA TON for Windows Taskbar 和Download the PLA TON executable.
然后解压安装，首先安装pwt，安装时需设定系统环境变量，安装后再将platon解压后复制到pwt的安装目录内即可。
1.2 运行pwt.exe
点击File－－Select Data File，选择要升高对称性的结构文件*.res或者*.ins。
再点击Publish－addsym 系统显示检查画面，如提示有更高对称性的空间群，则原先空间群有误，需要进行转化。
再点击Publish－addsym shelx，可以生成一个新的同名*.res文件，此res文件会将原先的res文件覆盖，在此文件的基础上继续精修即可。
应该没有任何问题，已经试过很多次了！
最好用xp打开此res文件，然后再file一次，再作经修
2. 在xp中, 用mpln定义平面,仔细看那个方程(大家用xp操作时不要太快,因为那个方程第一个出来,一块就找不到了),方程的等号右边有一个常数,你算第一个平面时将它记下,不过最好将望着的方程记下,然后再算第二个平面,又有一个方程,记下常数项,然后二者一减就是二者的距离,不过平面越是完全平行这个值越接近他俩的真实距离,平行与否可以看大家都能看到的那个夹角,另外也可以看刚才的方程的系数,系数相同或者成线形比例,就平行.
3．我的CIF文件里的对称代码2_556 1_545 请问这些对称代码是如何算出来的？？
在考虑对称单元的时候，在ShelxTl里面考虑x，y，z均为9个单胞的范围，并且把N_555规定为最初的单胞，即此单胞内的原子坐标均小于1，如果一个对称单元出现的下（x＋1，y，z）的那个那个单胞内，则相应的堆成码就变成了N_655，其他的如此类推，比如在（x－2，y＋1，z＋2）的单胞内，对称码就为N_367，总之都是以N_555为最中心做相应的加减，这应该比较好理解。在那么大的范围内，我们希望长出来的对称单元应该都可以长出来了。我们常见的对称码都在N_555附近，很少有大于N_777的和小于N_333的。
下面再来说前面的N_555中的“N”的含义，它表示对称操作（symmetry operators）的类型，它可以在XP界面下由SYMM命令得到，第几个对称操作，N就相应是几了。N在不同空间群内代表的对称操作是不一样的。
欢迎大家继续讨论。
4. （１）画堆积图是是按什么原则的？（２）在堆积图中我找到两个分子有堆积作用，但是我如何知道这两个分子是按什么对称代码得到的。也就是说我要得到这样的两个分子，采用什么代码画出来？
在xp 中用
envi ##找出与第一个分子有作用的原子
sgen/mgen##生长
5. 我看见一些高手在解晶体时，时不时地查一下国际表。我是个新手，请问哪位高人告诉我国际表究竟能给出啥信息？对解晶体到底有什么帮助？
严格意义上，解晶体要知道等效位置的分布情况。
高手会手工导出，但推导很费时，所以才有捷径--查表。常用的目的有三：
一是等效位置点，对一个晶体，不对称单元的原子一般要位于晶胞内靠近原点的等效点上，这是经常查表的理由之一。不过，现在这一工作可在解完后交由PLA TON协助处理，但高手是在解的过程中就将这一问题解决了。
二是空间群的合理性，这要结合LST得知的衍射反常点情况进行判断。这点程序XPREP尽管有提供，但程序常常不尽合理，它只取前N个数据点处理。不过，由消光规律得出可能的空间群所需的知识很少。大家应该掌握！
三是空间群的提高和降低问题，就是子群、同构群和母群问题。这点即便是非常的高手也是要经常查表的原因。
另外，从子群、同构群和母群的关系也可以解释U因子为什么在某方向大、在某方向小，同时也可预期晶体可能具有的功能性。
建议在你开始时，补充一下这方面的知识。这是解结构应该要尽可能具备的技能。
6. C110.1216520.2460270.442076 21.0000000.069420
C210.0601250.2501560.502590 21.0000000.089850
O140.7411930.4207370.921086 11.0000000.0971900.042270 =
0.0433100.0344000.0039900.026710
O240.5685630.2915490.810126 11.0000000.0610800.056650 =
0.0444600.023300 -0.0006300.023610
如上是INS文件中的数据,请问第六列的21.000000何解, 多谢
通常21与-21成对出现，这表示一个原子统计在两个位置上，期占有率之和为1。比如
FV AR0.168320.7534
PART 1
C2A10.2559050.173582-0.00134421.000000.04351
PART 2
C2B10.2993730.178166-0.015708-21.000000.03516
PART 0
这表示C2占据A和B两个位置，PART 1的部分一般为21，PART 2的部分为－21，FV AR变量的第二个数字（0.7534）表示A位置（21）的实际占有率，而（1－0.7534）则表示B位置（－21）的实际占有率。
7. 哦，看来是我是用Xshell时产生的
可不可以设置让一个PART的占有率自动精修，怎样实现，谢谢
如果想对某个原子的占有率进行精修，可以把它的占有率改为1.000，然后精修，Xl以后会发现1.000有所改变.
8. 我是这样做的，可是发现本应该占位几率一样的一组原子被精修的占位不一样了，虽然相差不是很大，但R值下不去，所以我想可能就是因为这个不一样所导致的。不知道是不是有让这一组原子在占位大小一样的情况下精修占位度。可能说不不太明白，是这样：
As1 As2 As3 As4
As5 As6 As7 As8
这是赤道皇冠形宠状多酸球里的二组As占位序列，每组里的As占位应该是一样的，但不确定各组占位是多少，最理想当然是各组0.50000，但是好象不是这样的
你也可以把精修后的占有率固定，比较接近的占有率固定成一样的，但是要保证2个原子的占有率之和要等于1，试试看，统计和无序是最难精修的，可以参见如下网页：
http://shelx.uni-ac.gwdg.de/~peterm/tutorial/do-intro.htm
9. 如何根据对称代码来画图？？
我画了C-H...O氢键图，可编辑说我图画的不对！，提了如下意见：
The first problem is that the molecules drawn in the Figure
does not correspond to the symmetry codes given in Table 2.
In Table 2, C-H...O hydrogen bonds are shown between the molecules with symmetry
codes,
1_555 and 2_576, and between the molecules with symmetry codes, 1_555 and 2_577,
while you drew the C-H...O hydrogen bonds
between 2_666 and 1_645, and between 2_666 and 1_644.
Of course, relative positions between 1_555 and 2_576 and between 2_666 and
1_645 are equal,
but for reader of your manuscript,
I I think that the Figure should be drawn according to the symmetry codes given
in Table 2.
The second problem is that not all C-H...O hydrogen bonds are drawn in the
Figure.
For example, you drew a C-H...O hydrogen bond,
C23(2_666)-H27A(2_666)...O5(1_645).
This causes automatically (through symmetry relation) another C-H...O hydrogen
bond,
C23(1_645)-H27A(1_645)...O5(2_666),
that you failed to draw.
该如何解决！！求大家帮忙！！
第一,所有的质子给体的对称代码一般都应该为1555.
第二,然后才能根据给体划受体.
最后,所有的氢键都可以从不对称单元中找到给体,不然就不叫不对称单元.
从你的问题看,主要的原因好像就是没有把所有的给体的对称代码给成1555.
10. 那怎样把给体的对称代码给成1555,我的图只是在XP中画的,没有考虑什么对称代码!!我用proj 作图,删掉多余的分子形成的!!谢谢!!
在XP下,先用ENVI找出对称原子,然后用SGEN命令完成对称原子都把对称码转化为1555
11. 关于对称代码代表的操作？
作图时，用了sgen 4565 ，但不知4565对应的具体坐标是什么，如#1 1/2-x, 3/2-y, -z; #2 x, 1+y,z ; 如何才能得到这样的具体坐标形式？
谢谢！
https://www.docsj.com/doc/0717693022.html,/kastner/xp/xp.htm
谢谢，明白了不少
12. 芳环堆积平面间距离计算
如果两个平面完全平行，他们的方程系数应该一样或者成比例变化（这是数学上的），那么既然这一方程表示的是你选的原子的最小二乘面，而且系数相同，从数学知识可以肯定它们的常数项差的绝对值应该是两个平面间的距离，这勿庸置疑。
至于俩个平面有夹角，它们就不存在平面间的距离，只能说一个大概的数值，因为如果俩个平面有夹角，那么它肯定会相交的，就不存在距离，这是数学上的说法，而现在为晶体学，我们讨论的平面是有限的，而不是无限的，所以我觉得可以按平行的那样去处理，不过要加一些参数，比如说两个平面的夹角。因为，我们之所以说有芳香堆积，那么俩个环的平面夹角应该比较小。所以可以按平行处理。若夹角太大，那么就不是F型的芳香堆积，可以考虑T型的。
完全平行，勿庸置疑？这只有在方程系数为方向余弦的倒数才成立。否则，？？如
10X+11Y+12Z=14和10X+11Y+12X=15,此处二方程也可表示为5X+5.5Y+6Z=7 和5X+5.5Y+6Z=7.5
两种情况的常数项差分别为1和0.5，哪一个正确？不置疑只能是方程系数为方向余弦的倒数。计算一下，SHELXL好像不是这一情况。不知怎么回事？
至于俩个平面有夹角，只能说一个大概的数值。我建议是采用点到平面的距离计算，或者从图中看出大致哪两个点（包括芳环中心）连线垂直于环平面，后计算两点距。当然，两平面的二面角是要计算一下的。至于F型和T型，很容易从画上看出
不平行的我建议还是算他们的心心间距离，然后将二面角和心心之间的错位距离表征出来最好。不过心与心间的错位距离还不会算，请教高手如何计算？
13. 如何计算面间距
两个苯环间存在相互作用力,应如何计算他们之间的距离
我没有使用PLATON的经验。下面是用SHELXL计算时的问题：
在INS中加入命令
MPLA 6 C11 C12 C13 C14 C15 C16 C21 C22 C23 C24 C25 C26（不能超过80个字符，超过时用“=”续行）打开LST文件，可找到C21--C26到C11-C16确定平面的6个偏差，它们的平均值即为两苯环平面的距离。
考虑计算平面性，在INS文件增入一命令：
MPLA 6 C21 C22 C23 C24 C25 C26
打开LST文件，得到上下这两个平面的平面方程（我的实例中两平面是绝对平行的）AX+BY+CZ=D1
AX+BY+CZ=D2
其中，A、B和C均大于1。有趣的是，前一方法（平均偏差）的值刚好等于后一方法的D1-D2的绝对值。可查一下数学手册，对后一种方法的平面距的公式为
|D1-D2|/[（A^2 + B^ + C^2)^(1/2)]
如果按这一公式计算，两种方法的答案就不一样了。而前一方法应该说是比较可以接受的，它是计算平面性的依据，其值为3.5A，而|D1-D2|也等于3.5A。但按数学公式计算为0.32A，显然错误。可数学上的这一公式是经得起推敲的啊！
出了什么问题了？应该不是SHELXL97出问题，是SHELXL的平面方程与数学上的平面方程定义上不一样？
以前我们实验室在计算面间距都是采用前一方法。最近看到大家对这一问题讨论比较热，我们才想是不是可以采用别的方法计算，才出现了这一问题。请大家帮助指出其中的错误。
xp命令下：
cent/x c1 c4
程序会确定两个原子的中心位置x1
cent/x c1a c2a
程序会确定两个原子的中心位置x2
然后连接两个中心位置
link x1 x2
然后
bang x1 or x2
platon下：
你可以用那里的calc all，然后你在生成的.lis文件里找你要的那两个平面的距离
我推荐你用platon，xp里计算太麻烦，还有我感觉我用xp计算的不准确，
14. 关于对称代码
在xp中有好多对称代码，如4566，6564，4555等，但是并不是所有的都有，可能让大家见笑了，我想问的是一般给那些原子才会有这些代码？是不是晶胞中的所有原子就可以通过mgen这一操作长全？谢谢了？
只要有对称操作都可以通过ENVI,SGEN命令来长出需要的对称原子
ENVI得对称号,通过SGEN 4566 O2长出需要的对称原子
15. 如何将占有率修好后固定？谢谢！
在INS文件中把占为度数据的十位数加1
16. 关于对称代码
最近写了一篇文章,在cif文件中有对称操作代码,其中有三个是别人给的,有_geom_hbond_site_symmetry_A 一栏的代码.但是我自己找了俩个氢键,不知该如何找,我的晶体属于Monoclinic P2(1)/n. 最后俩个的对称代码我也知道,分别是(0.5+x,0.5-y,0.5+z)和(1.5-x,1.5+y,1.5-z)在cif文件中如何表示?
就像第二条氢键一样用3_666 来表示(1-x,1-y,1-z).
loop_
_geom_hbond_atom_site_label_D
_geom_hbond_atom_site_label_H
_geom_hbond_atom_site_label_A
_geom_hbond_distance_DH
_geom_hbond_distance_HA
_geom_hbond_distance_DA
_geom_hbond_angle_DHA
_geom_hbond_site_symmetry_A
O2 H2O O30.82 1.86 2.5903(16) 148.1 .
C4 H4 O40.93 2.54 3.459(2) 170.83_666
C14 H14 O20.930(5) 2.581(3) 3.398(7) 147.01(10)1_455
C11 H11 O30.93 2.56 3.4640(18) 163.5
C16 H16B O5 0.961(2) 2.637(10) 3.199(14) 117.69(11)
你可以用platon 软件计算一下氢键，它会给出你所有想要的，
或者让platon生成一个cif表，然后把你要的那一部分贴到你的文章上对应的那一部分，
命令是tab acc，它会生成一个文件，你用写字板打开就行了。
在ins中写htab命令就可以吧？还有eqiv不就有了
你写两条就是了，没什么得
我建议你看看说明书关于
eqiv
htab
17. 在发文章时常会看到在一副图片下边有这样的东西：symmetry code -x, -y z+1之类的东西，我们改如何找呀，谢谢！！！
查国际表
谢谢李老师的帮助,谢谢各位建议,我发现直接可以用diamond找到它的代码,在测量键长及键角那一栏就有.谢谢各位,希望大家有什么拿手好戏,不要隐藏,那出来大家共享,共同提高.不是有一句名言: 你有一个思想,我也有一个,通过交流,那么我们每人会有俩个. 不是原话,但意思就是这样.
18. 如何得到堆积图中每一个分子的symmetry code？
可以用diamond查找
用diamond将其打开，选中你想要知道的元素后，点击上面的带有!号的图标，就可以了
19. 处理无序的心得
无序问题任谁都讨厌
三个解决办法
1。将U值改小。
2。用ISOR 命令
3，用simu 命令
以上三个都是用处理热椭球形状来投机取巧，无助于re1 的降低。
实际上裂分是正确的方法, part1part2art0 注意：将11 改为21 -21 还有是查找LIST里面的系统建议的裂分数值。这样虽然更加符合晶体的实际情况使R1降低，但作图有点难看，注意作图时修正一下。
http://shelx.uni-ac.gwdg.de/~peterm/tutorial/disord.htm
晶体结构解析基本步骤
晶体结构解析基本步骤 Steps to Crystallographic Solution (基于SHELXL97结构解析程序的SHELXTL软件，尚需WINGX和DIAMOND程序配合) 注意：每一个晶体数据必须在数据所在的目录(E:\STRUCT)下建立一子目录(如E:\STRUCT\AAA)，并将最初的数据备份一份于AAA目录下的子目录ORIG，形成如右图所示的树形结构。 一. 准备 1. 对IP收录的数据, 检查是否有inf、dat和f2(设为sss.f2, 并更名为sss.hkl)文件; 对CCD 收录的数据, 检查是否有同名的p4p和hkl(设为sss.hkl)文件 2. 对IP收录的数据, 用EDIT或记事本打开dat或inf文件, 并于记录本上记录下相关数据(下面所说的记录均指记录于记录本上)： ⊕从% crystal data项中，记下晶胞参数及标准偏差(cell)；晶体大小(crystal size)；颜色(crystal color)；形状(crystal habit)；测量温度(experiment temperature)； ⊕从total reflections项中，记下总点数；从R merge项中，记下Rint＝?.???? % (IP收录者常将衍射数据转化为独立衍射点后传给我们); ⊕从unique reflections项中，记下独立点数 对CCD收录的数据, 用EDIT或记事本打开P4P文件, 并于记录下相关数据： ⊕从CELL和CELLSD项中，记下晶胞参数及标准偏差; ⊕从CCOLOR项中，记下晶体颜色; 总点数；从CSIZE项中，记下晶体大小; ⊕从BRA V AIS和SYMM项中，记下BRA V AIS点阵型式和LAUE群 3. 双击桌面的SHELXTL图标(打开程序), 呈 4. New, 先在“查找范围”选择数据所在的文件夹(如E:\STRUCT\AAA), 并选择衍射点数据文件(如sss.hkl),?单击Project Open,?最后在“project name”中给一个易于记忆和区分的任务名称(如050925-znbpy). 下次要处理同一结构时, 则只需Project 在任务项中选择050925-znbpy便可 5. 单击XPREP , 屏幕将显示DOS式的选择菜单: ⊕对IP收录的数据, 输入晶胞参数后回车(下记为
单晶结构解析步骤
shelxtl open new name xp fmol kill $q proj select the good direction exit telp 0 -30 plotfile enter file name draw file name select file(ps file) black and white cell fmol kill $q matr 1=a 2=b 3=c pbox 5 15 pack select (space=keep, enter=del) fmol telp cell enter file name draw file name select file type(a=psfile) black and white(enter) plane xp read file name fmol mpln atom1 atom 2..... enter angle xp read file name fmol
mpla n(atom number) atom1 atom 2..... mpla n(atom number) atom1 atom 2..... mpla n(atom number) atom1 atom 2..... enter fmol kill link matr pbox pack undo c**? C**? telp cell xl 计算方法 在ins中任何地方插入 mpla 虚拟平面的原子个数（例如六个原子只有四个可能共平面，即输入4），后面连续输入可能共平面的4个原子，后面在输入其他两个平面外的原子。 例如c1 c2 c3 c4 c5 n1中，c1 c2 c4 c5 共平面 mpla 4 c1 c2 c4 c5 c3 n1 txt 运行xcif 选择t 两次回车 输入文件名.txt 选择def 回车直到选择q 理论加氢 在ins中输入 HFIX 要加氢的原子 保存ins 运行XL 打开RES 拷贝相应的数据到ins中即可。 CHEMICAL DRAW 选中画笔 点出两个点 按ESC 点选择键 选中画笔 鼠标移动至出现小手
单晶结构解析常见问题问答
1.为什么要提高空间群的对称性？ 有时候在对称性较高的空间群内不容易解得初结构，在这种情况下可以降低对称性来解，但是解完以后还要把空间群转换回去。 1．1 先安装Platon 从其主页上下载https://www.docsj.com/doc/0717693022.html,/~louis/software/platon/ https://www.docsj.com/doc/0717693022.html,/~louis/software/platon/pwt_setup.zip https://www.docsj.com/doc/0717693022.html,/~louis/software/platon/platon.zip Download the PLA TON for Windows Taskbar 和Download the PLA TON executable. 然后解压安装，首先安装pwt，安装时需设定系统环境变量，安装后再将platon解压后复制到pwt的安装目录内即可。 1.2 运行pwt.exe 点击File－－Select Data File，选择要升高对称性的结构文件*.res或者*.ins。 再点击Publish－addsym 系统显示检查画面，如提示有更高对称性的空间群，则原先空间群有误，需要进行转化。 再点击Publish－addsym shelx，可以生成一个新的同名*.res文件，此res文件会将原先的res文件覆盖，在此文件的基础上继续精修即可。 应该没有任何问题，已经试过很多次了！ 最好用xp打开此res文件，然后再file一次，再作经修 2. 在xp中, 用mpln定义平面,仔细看那个方程(大家用xp操作时不要太快,因为那个方程第一个出来,一块就找不到了),方程的等号右边有一个常数,你算第一个平面时将它记下,不过最好将望着的方程记下,然后再算第二个平面,又有一个方程,记下常数项,然后二者一减就是二者的距离,不过平面越是完全平行这个值越接近他俩的真实距离,平行与否可以看大家都能看到的那个夹角,另外也可以看刚才的方程的系数,系数相同或者成线形比例,就平行. 3．我的CIF文件里的对称代码2_556 1_545 请问这些对称代码是如何算出来的？？ 在考虑对称单元的时候，在ShelxTl里面考虑x，y，z均为9个单胞的范围，并且把N_555规定为最初的单胞，即此单胞内的原子坐标均小于1，如果一个对称单元出现的下（x＋1，y，z）的那个那个单胞内，则相应的堆成码就变成了N_655，其他的如此类推，比如在（x－2，y＋1，z＋2）的单胞内，对称码就为N_367，总之都是以N_555为最中心做相应的加减，这应该比较好理解。在那么大的范围内，我们希望长出来的对称单元应该都可以长出来了。我们常见的对称码都在N_555附近，很少有大于N_777的和小于N_333的。 下面再来说前面的N_555中的“N”的含义，它表示对称操作（symmetry operators）的类型，它可以在XP界面下由SYMM命令得到，第几个对称操作，N就相应是几了。N在不同空间群内代表的对称操作是不一样的。 欢迎大家继续讨论。
单晶结构解析XP作图
单晶结构解析XP作图： 1、画结构图 打开Shelxtl软件→导入res文件→打开XP程序→输入fmol→kill $q→kill $h→envi （中心对称原子）→回车后寻找不同于1555对称操作的代码如2555→sgen 2555→proj(查看结构)→利用操作按钮转动结构找出最佳摆放位置(高度不能大于宽度)→labl 2 500(2 500是默认的大小) →telp 0 -30 0.05 0(后面四个数据分别确定结构的模型和一些参数) →回车回车直到出现Plotfile：(在这里输入名字，这里画结构图，可以统一命名为jiegou) 后回车将会出现命名所有原子的图（根据鼠标位置提醒依次在原子周围左键点击）→draw jiegou→回车后会出现SLPT device[L]:（输入a或者h）再回车输入jiegou，然后回车直到光标不闪位置→出现了xp《图标说明结构图已经画好→quit 注：红色字体为结构需要对称操作才能显示一个完整的分子结构所进行的操作。 图片操作解析 在这里找到res 文件的位置
2导入res 文件后，打开XP 操作系统输入fmol 后回车 3输入kill $h $q 4 proj 后出现下图所示
5 按步骤画图 命名所有原子
二、作堆积图 Fmol→matr 1(代表a方向堆积) →pbox 15 15→pack 然后点 击按钮sgen/fmol保存（倒数第二个）→proj cell→telp cell →命名duiji 后出现一个命名原子的图框，标出O a b c→draw duiji→a或h→duiji→→quit 1、 当出现这个时表 明图已经画好
单晶结构解析加氢,绘图问题解答
1.通常，H原子的处理方法作者要给出 (1)一般通过理论加H，其温度因子为固定值，可通过INS等文件查看 (2) 水分子上H原子可通过Fourier syntheses得到 (3)检查理论加上的H原子是否正确，主要看H原子的方向。若不正确则删去再通过Fourier syntheses 合成得到 (4) 检查H原子的键长、键角、温度因子等参数是否正常。通过检查分子间或分子内的H键是否合理 最易看出H键的合理性 (5) 技巧：有时通过Fourier syntheses得到的H原子是正确的，可一计算其温度因子等参就变得不正常， 则可以固定其参数后再精修（如在INS中的该H原子前用afix 1,其后加afix 0） （6）各位来说说方法与心得？ 2.胡老师，下面的问题怎么解决啊？谢谢您。 220_ALERT_2_B Large Non-Solvent C Ueq(max)/Ueq(min) ... 3.70 Ratio 222_ALERT_3_B Large Non-Solvent H Ueq(max)/Ueq(min) ... 4.97 Ratio 342_ALERT_3_B Low Bond Precision on C-C bonds (x 1000) Ang (49) B 级提示当然得重视了。建议你先把H撤消，精修到C的热椭球不太变形和键长趋正常。如做不到就要看空间群？衍射点变量比太小？以至追查到原始数据的录取参数和处理等。这些粗略意见仅供参考，如何？ 3.在XP中画图时，只有一部分，想长出另外的对称部分。我是envi完了，然后sgen长出 来的，可是和symm显示的对称信息不一样。比如：我根据envi的结果用sgen O1 4555得到的是O1A而不是O1D，这跟文献中标注的不一样啊，怎么统一呢？很困扰，忘达人指教。 xp里是按顺序编号的，第一个sgen出的的统一为A,依次标号。你如果想一开始就统一D的话，重新name一下 4.高氯酸根怎么精修呀？我用的SHETXL6.1版的，最好告诉我怎么用其中的XSHELL来做，我觉得他 好用！ Method 1 DFIX Dfix 1.42 0.02 Cl1 O1 Cl1 O2 Cl1 O3 Cl1 O4 Dfix 1.42 0.02 O1 O2 O1 O3 O1 O4 O2 O3O2 O4O3 O4 Method 2 SADI Sadi 0.01 Cl1 O1 Cl1 O2 Cl1 O3 Cl1 O4 Sadi 0.01 O1 O2 O1 O3 O1 O4 O2 O3 O2 O4 O3 O4 5. 晶体的无序是怎么造成的呀，是晶体培养的问题吗？ 如果无序太多，在解单晶的时候怎么办？我指的是很多的点，没有结构，他们的峰值都大于了0.5 大于0.5没什么的，解完后都在1以下就可以了。特殊的比较大的在重原子附近也没有关系5.比较确切的定义是单胞中你测定的或你设想的“化学式”的数目。 在分子晶体中，Z是分子数，在其它各类晶体中则为化学式个数。 例如有机物一般是分子数目，离子晶体像NaCL只好说化学式为4。 晶体结构常有无序和缺位等，但给出非化学计量式后Z都是确定的。 Z 的数字决定于你的化学式。三斜晶系的P-1空间群的Z多为2。由于双聚等原因如将双聚体写成你的化学式，那么Z就变为1了。但是就拿这个三斜晶系来说，出现Z为4或6的情况也是可能的。 这时分子形成双聚或者三聚，而你指定的分子式只是个单体罢了。测定结构初期得到单胞以后，往往希望知道单胞中有几个"分子",如你知道了或提出了化学式，从我们介绍的范氏半径或原字体积即可毛
几种常见晶体结构分析.
几种常见晶体结构分析 河北省宣化县第一中学 栾春武 邮编 075131 栾春武：中学高级教师，张家口市中级职称评委会委员。河北省化学学会会员。市骨干教师、市优秀班主任、模范教师、优秀共产党员、劳动模范、县十佳班主任。 联系电话：：： 一、氯化钠、氯化铯晶体——离子晶体 由于离子键无饱和性与方向性，所以离子晶体中无单个分子存在。阴阳离子在晶体中按一定的规则排列，使整个晶体不显电性且能量最低。离子的配位数分析如下： 离子数目的计算：在每一个结构单元（晶胞） 中，处于不同位置的微粒在该单元中所占的份额也有 所不同，一般的规律是：顶点上的微粒属于该单元中 所占的份额为18 ，棱上的微粒属于该单元中所占的份额为14，面上的微粒属于该单元中所占的份额为12 ，中心位置上（嚷里边）的微粒才完全属于该单元，即所占的份额为1。 1.氯化钠晶体中每个Na +周围有6个C l －，每个Cl －周围有6个Na +，与一个Na +距离最近且相等的 Cl －围成的空间构型为正八面体。每个N a +周围与其最近且距离相等的Na + 有12个。见图1。 晶胞中平均Cl －个数：8×18 + 6×12 ＝ 4；晶胞中平均Na +个数：1 + 12×14 ＝ 4 因此NaCl 的一个晶胞中含有4个NaCl （4个Na +和4个Cl －）。 2.氯化铯晶体中每个Cs +周围有8个Cl －，每个Cl －周围有8个Cs +，与 一个Cs +距离最近且相等的Cs +有6个。晶胞中平均Cs +个数：1；晶胞中平 均Cl －个数：8×18 ＝ 1。 因此CsCl 的一个晶胞中含有1个CsCl （1个Cs +和1个Cl －）。 二、金刚石、二氧化硅——原子晶体 1.金刚石是一种正四面体的空间网状结构。每个C 原子以共价键与4 个C 原子紧邻，因而整个晶体中无单个分子存在。由共价键构成的最小 环结构中有6个碳原子，不在同一个平面上，每个C 原子被12个六元环 共用，每C —C 键共6个环，因此六元环中的平均C 原子数为6× 112 ＝ 12 ，平均C —C 键数为6×16 ＝ 1。 C 原子数: C —C 键键数 ＝ 1:2； C 原子数: 六元环数 ＝ 1:2。 2.二氧化硅晶体结构与金刚石相似，C 被Si 代替，C 与C 之间插氧，即为SiO 2晶体，则SiO 2晶体中最小环为12环（6个Si ，6个O ）， 最小环的平均Si 原子个数：6×112 ＝ 12；平均O 原子个数：6×16 ＝ 1。 即Si : O ＝ 1 : 2，用SiO 2表示。 在SiO 2晶体中每个Si 原子周围有4个氧原子，同时每个氧原子结合2个硅原子。一个Si 原子可形 图 1 图 2 NaCl 晶体 图3 CsCl 晶体 图4 金刚石晶体
晶体解析的步骤
晶体解析的步骤 Steps to Crystallographic Solution (基于SHELXL97结构解析程序和DOS版SHELXTL画图软件。在DOS下操作) 注意： 1. 每一个晶体数据必须在D:/STRUCT下建立一子目录(如D:\STRUCT\AAA)，并将最初的数据备份一份于AAA目录下的子目录ORG; 2. 此处用了STRUCT.BAT批文件，它存在于C:\根目录下，内有path= c:\nix; c:\exe; d:\ struct; c:\windows\system32 (struct为工作目录，exe为SHELXL97程序，nix为SHELXTL 画图) 3. 在了解DOS下操作之后，可在WIN的WINGX界面下进行结构解析工作，画图可用XP 或DIAMOND软件进行。 一. 准备 1. 检查是否有inf、dat和f2(设为sss.f2)文件 2. 用EDIT或记事本打开dat或inf文件, 并于记录本上记录下相关数据(下面所说的记录均指记录于记录本上)： ⊕从% crystal data项中，记下晶胞参数及标准偏差(cell)；晶体大小(crystal size)；颜色(crystal color)；形状(crystal habit)；测量温度(experiment temperature)； ⊕从R merge项中，记下Rint＝?.???? %； ⊕从total reflections项中，记下总点数； ⊕从unique reflections项中，记下独立点数 3. 双击桌面的DOS图标(或Win2000与WinNT的“命令提示符”) 4. 键入STRUCT(属于命令，大小写均可。下同) 5. 进入欲处理的数据所在的文件夹(上面的1~2工作也可在这之后进行) 6. 键入XPREP sss.f2 (屏幕显示DOS的选择菜单) 7. 选择[4]，回车(下记为
单晶结构解析技巧
单晶结构解析技巧 1. 通常，H原子的处理方法作者要给出: (1)一般通过理论加H，其温度因子为固定值，可通过INS等文件查看 (2) 水分子上H原子可通过Fourier syntheses得到 (3)检查理论加上的H原子是否正确，主要看H原子的方向。若不正确则删去再通过Fourier syntheses合成得到 (4) 检查H原子的键长、键角、温度因子等参数是否正常。通过检查分子间或分子内的H键是否合理最易看出H键 的合理性 (5) 技巧：有时通过Fourier syntheses得到的H原子是正确的，可一计算其温度因子等参就变得不正常，则可以固定 其参数后再精修（如在INS中的该H原子前用afix 1,其后加afix 0） (6) 各位来说说方法与心得？ 2. 胡老师，下面的问题怎么解决啊？谢谢您。 220_ALERT_2_B Large Non-Solvent C Ueq(max)/Ueq(min) ... 3.70 Ratio 222_ALERT_3_B Large Non-Solvent H Ueq(max)/Ueq(min) ... 4.97 Ratio 342_ALERT_3_B Low Bond Precision on C-C bonds (x 1000) Ang (49) B 级提示当然得重视了。建议你先把H撤消，精修到C的热椭球不太变形和键长趋正常。 如做不到就要看空间群？衍射点变量比太小？以至追查到原始数据的录取参数和处理等。 这些粗略意见仅供参考，如何？ 3. 在XP中画图时，只有一部分，想长出另外的对称部分。我是envi完了，然后sgen长出来的，可是和symm显示的对称信息不一样。比如：我根据envi的结果用sgen O1 4555得到的是O1A而不是O1D，这跟文献中标注的不一样啊，怎么统一呢？很困扰，忘达人指教。 xp里是按顺序编号的，第一个sgen出的的统一为A,依次标号。你如果想一开始就统一D的话，重新name一下 4. 高氯酸根怎么精修呀？我用的SHETXL6.1版的，最好告诉我怎么用其中的XSHELL来做，我觉得他好用！Method 1DFIX Dfix 1.42 0.02 Cl1 O1 Cl1 O2 Cl1 O3 Cl1 O4 Dfix 1.42 0.02 O1 O2 O1 O3 O1 O4 O2 O3O2 O4O3 O4 Method 2SADI Sadi 0.01 Cl1 O1 Cl1 O2 Cl1 O3 Cl1 O4 Sadi 0.01 O1 O2 O1 O3 O1 O4 O2 O3 O2 O4 O3 O4 5. 晶体的无序是怎么造成的呀，是晶体培养的问题吗？ 如果无序太多，在解单晶的时候怎么办？我指的是很多的点，没有结构，他们的峰值都大于了0.5 大于0.5没什么的，解完后都在1以下就可以了。特殊的比较大的在重原子附近也没有关系 5. 比较确切的定义是单胞中你测定的或你设想的“化学式”的数目。 在分子晶体中，Z 是分子数，在其它各类晶体中则为化学式个数。 例如有机物一般是分子数目，离子晶体像NaCL只好说化学式为4。
晶体结构分析讲义(上)
晶体结构分析 主讲人：吴文源 2010.5
1.Shelxtl 使用流程 ※解析原始文件有hkl文件（或raw文件），包含衍射数据；p4p文件，包含晶胞参数 ※为一个晶体的数据建立project，该项目下所有文件具有相同的文件名；一旦在XPREP 中发生hkl文件的矩阵转换，则需要输出新文件名的hkl等文件，因此要建立新的project。※首先运行XPREP，寻找晶体的空间群 ※然后运行XS，根据XPREP设定的空间群，寻找结构初解 ※在Xshell中观察初解是否合理，如不合理，需重回XPREP中设定其他的空间群 2.Xshell 使用流程 ※找出重原子或者确定性大的原子 ※找出其余非氢原子 ※精修原子坐标 ※精修各项异性参数 ※找到氢原子(理论加氢或差值傅里叶图加氢) ※反复精修，直到wR2等指标收敛。最后的R1<0.06(0.08) wR2<0.16(0.18) ※通过HTAB指令寻找氢键，判定氢的位置是否合理，并且将相关氢键信息通过HTAB和EQIV指令写进ins文件中 ※将原子排序(sort) 3.cif 文件生成和检测错误流程 ※在步骤1、2完成后，在ins文件中加入以下三条命令 bond $H conf acta ※此时生成了cif和fcf文件，将cif文件拷贝到planton所在文件夹中检测错误，也可以通过如下在线检测网址：https://www.docsj.com/doc/0717693022.html,/services/cif/checkcif.html ※根据错误提示信息，修改或重新精修，将A、B类错误务必全部消灭，C类错误尽量消灭。 4.Acta E 投稿准备流程 投稿前，请务必切实做好如下工作： ※按步骤1、2、3解析晶体并生成相应cif和fcf文件。 ※准备结构式图(Chemical structural diagram)、分子椭球图(Molecular ellipsoid diagram)和晶胞堆积图(Packing diagram)，最好是pdf格式。 ※按要求撰写文章的文字部分，填写cif中相应段落，注意格式要求！ _publ_section_title 题目 _publ_section_abstract 摘要 _publ_section_related_literature 相关文献 _publ_section_comment 评论 _publ_section_exptl_prep 制备方法 _publ_section_exptl_refinement 精修说明 _publ_section_references 参考文献 _publ_section_figure_captions 插图说明 _publ_section_table_legends 表格说明 _publ_section_acknow ledgements 致谢 ※将cif中需要填写的其他部分（在cif的标准空白样本中以！标注）全部完成，并再次检查整个cif文件格式和内容。
单晶培养和结构解析
单晶培养和结构解析 单晶结构是用来了解晶型的晶体结构和确定药物分子的立体化学结构最具说服力的数据，但培养单晶通常很有挑战性，需要耐心和细心。科研人员需要具有很高的晶体生长技巧和丰富的单晶培养经验，能根据药物分子的物化性能选择最适合的结晶方法。单晶培养方法包括但不限于以下七种： ●溶剂挥发法 ●冷却结晶法 ●蒸气扩散 ●液-液扩散法 ●悬滴法 ●升华法 ●共晶生成法 详情请登陆：苏州晶云药物科技https://www.docsj.com/doc/0717693022.html, 中国药物晶型论坛https://www.docsj.com/doc/0717693022.html,/
关于苏州晶云药物科技有限公司 晶云药物科技有限公司是中国首家专注于药物晶型研究的公司，为全球各制药公司提供药物晶型研究和药物固态研发领域的专业技术服务。 公司总部设立在苏州工业园区生物纳米园，在美国新泽西州设有分部。领导团队由中美科学家及管理人员共同组成，用国际化的先进理念领导和管理公司。核心团队成员过去在美国默克，美国百时美施贵宝以及罗氏等全球领先的制药公司直接负责和从事药物晶型研究和结晶工艺开发以及优化，共积累了在该领域60多年的研发和管理经验，曾共同负责和管理过超过200个药物分子的晶型研究，拥有40多项药物晶型专利，在各类国际学术期刊发表过100多篇论文。研发团队成员晶型研究经验丰富，技术力量雄厚，其中海外博士约占30%，硕士占50%，学士占20%。 团队利用掌握的核心技术开发出中国在药物晶型研究及药物固态研发领域的首个高新技术平台，并通过该平台为全球各制药公司提供该领域的高级技术研发服务。公司拥有享有自主知识产权的高新技术和高新仪器，不仅保证技术平台填补了国内在该领域的空白，而且使其处于国际领先地位。公司的业务集中在以药物的固态信息为中心的专业领域，包括原料药及其中间体的盐类，共晶和多晶的筛选和评估，原料药和制剂的专业表征和评估，药物结晶工艺的优化和放大，临床前药物制剂的研发，以及上述相关领域内自主知识产权技术和产品的开发，高级技术咨询及其培训等。 凭借晶云团队丰富的经验，高质量和高效率的专业服务，自2010年成立以来已经与全球五十多家制药企业建立合作关系，成为其在药物晶型研究和药物固态研发领域的紧密合作伙伴。随着晶云的不断发展，晶云将会一如既往秉持客户至上的服务理念，力求为越来越多的客户提供始终领先于科技前沿的高级技术服务。
晶体结构解析的过程XP
晶体结构解析的过程 (2010-06-10 16:49:31) 转载 标签： 分类：晶体解析 杂谈 1、挑选直径大约为0.1–1.0mm的单晶。 CCD的准直管直径有0.3mm，0.5mm，0.8mm；分别对应得晶体大小是0-0.3mm, 0.3-0.5mm, 0.5-0.8mm. 2、选择用铜靶还是钼靶？ 铜靶要求θmax〉=66度，最大分辨率是0.77埃 钼靶要求θmax〉=25度，最大分辨率是0.36埃 3、用smart程序收集衍射数据：得到大约一千张倒易空间的衍射图像，300M大小。其中matrix图像45张，分成三组，每组15张，用以判定晶体能否解析。 4、用saint程序还原衍射数据：得到很多文件，但是只有三个文件是我们需要的：-ls，p4p，raw。 -ls文件中包含有最大的和最小的θ角，有效地精修衍射点数目。好像不同的机器或者还原程序得到的文件不同，有的是hkl，abs。 5、用shelxtl程序处理上述数据，并画出需要的图形。 5.1 装好shelxtl程序，新建一个project，输入要建立工程的名字，然后打开要解析的p4p或者raw文件。 5.2 用xprep程序确立空间群，建立指令文件 这个过程基本上是一直按回车键的过程（除了在要输入化学成分的时候改动一下和在是否建立指令文件的时候输入Y即可），一般不会出错。如果出错，那就要重新对空间群进行指认（出错可能是出现在下面的精修过程中）。 一般Mean（I/sigma）〉2才可以，越大越好。
得到ins，hkl，pcf三个重要数据文件。 其中ins文件：包含分子式，空间群等信息； hkl文件：包含的是衍射点的强度数据； pcf文件：记录了晶体物理特征，分子式，空间群，衍射数据收集的条件以及使用的相关软件等信息。 5.3 选择要解析的方法：直接法（TREF）还是帕特深法（PATT）？ 如果晶体中含有重原子如金属原子，那就要用PATT法；如果晶体中没有原子量差异特别大的原子，就用TREF法。默认的方法是直接法。 5.4 用xs程序解析粗结构 得到res文件：包含了ins文件的内容和所有的Q峰信息。 5.5 用xp程序与xl程序完成原子的指认，付利叶加氢或理论加氢，画图等。 达到比较好的结果标准： A 化学上合理（键长、键角、价态） B R1 <0.08（0.06），wR2 <0.18（0.16），goof=S=1+-0.2(1.00) C R(int)<0.1,R(singma)<0.1 D Maximum=0.000 5.5.1 原子的指认 打开xp 输入fmol
晶体结构解析基本步骤
晶体结构解析基本步骤-CAL-FENGHAI.-(YICAI)-Company One1
晶体结构解析基本步骤 Steps to Crystallographic Solution (基于SHELXL97结构解析程序的SHELXTL软件，尚需WINGX和DIAMOND程序配合) 注意：每一个晶体数据必须在数据所在的目录(E:\STRUCT)下建立一子目录(如E:\STRUCT\AAA)，并将最初的数据备份一份于AAA目录下的子目录ORIG，形成如右图所示的树形结构。 一. 准备 1. 对IP收录的数据, 检查是否有inf、dat和f2(设为, 并更名为文件; 对CCD收录的数据, 检查是否有同名的p4p和hkl(设为文件 2. 对IP收录的数据, 用EDIT或记事本打开dat或inf文件, 并于记录本上记录下相关数据(下面所说的记录均指记录于记录本上)： ⊕从% crystal data项中，记下晶胞参数及标准偏差(cell)；晶体大小(crystal size)；颜色(crystal color)；形状(crystal habit)；测量温度(experiment temperature)； ⊕从 total reflections项中，记下总点数；从R merge项中，记下Rint＝. % (IP 收录者常将衍射数据转化为独立衍射点后传给我们); ⊕从unique reflections项中，记下独立点数 对CCD收录的数据, 用EDIT或记事本打开P4P文件, 并于记录下相关数据： ⊕从CELL和CELLSD项中，记下晶胞参数及标准偏差; ⊕从CCOLOR项中，记下晶体颜色; 总点数；从CSIZE项中，记下晶体大小; ⊕从BRAVAIS和SYMM项中，记下BRAVAIS点阵型式和LAUE群 3. 双击桌面的SHELXTL图标(打开程序), 呈 4. New, 先在“查找范围”选择数据所在的文件夹(如E:\STRUCT\AAA), 并选择衍射点数据文件(如,单击Project Open,最后在“project name”中给一个易于记忆和区分的任务名称(如050925-znbpy). 下次要处理同一结构时, 则只需Project 在任务项中选择050925-znbpy便可 5. 单击XPREP , 屏幕将显示DOS式的选择菜单: ⊕对IP收录的数据, 输入晶胞参数后回车(下记为
晶体结构解析步骤
晶体结构解析步骤 Steps to Crystallographic Solution (基于SHELXL97结构解析程序和DOS版SHELXTL画图软件。在DOS下操作) 注意： 1. 每一个晶体数据必须在D:/STRUCT下建立一子目录(如D:\STRUCT\AAA)，并将最初的数据备份一份于AAA目录下的子目录ORG; 2. 此处用了STRUCT.BAT批文件，它存在于C:\根目录下，内有path= c:\nix; c:\exe; d:\ struct; c:\windows\system32 (struct为工作目录，exe为SHELXL97程序，nix为SHELXTL画图) 3. 在了解DOS下操作之后，可在WIN的WINGX界面下进行结构解析工作，画图可用XP或DIAMOND软件进行。 一. 准备 1. 检查是否有inf、dat和f2(设为sss.f2)文件 2. 用EDIT或记事本打开dat或inf文件, 并于记录本上记录下相关数据(下面所说的记录均指记录于记录本上)： ⊕从% crystal data项中，记下晶胞参数及标准偏差(cell)；晶体大小(crystal size)；颜色(crystal color)；形状(crystal habit)；测量温度(experiment temperature)； ⊕从R merge项中，记下Rint＝?.???? %； ⊕从total reflections项中，记下总点数； ⊕从unique reflections项中，记下独立点数 3. 双击桌面的DOS图标(或Win2000与WinNT的“命令提示符”) 4. 键入STRUCT(属于命令，大小写均可。下同) 5. 进入欲处理的数据所在的文件夹(上面的1~2工作也可在这之后进行) 6. 键入XPREP sss.f2 (屏幕显示DOS的选择菜单) 7. 选择[4]，回车(下记为
整理晶体结构解析步骤
晶体结构解析步骤Steps to Crystallographic Solution （基于 SHELXL97 结构解析程序和 DOS 版 SHELXTL 画图软件。在 DOS 下操作） 注意： 1. 每一个晶体数据必须在 D:/STRUCT 下建立一子目录（如 D:\STRUCT\AAA），并将最初的数据备份一份于 AAA 目录下的子目录 ORG; 2.此处用了 STRUCT.BA T 批文件，它存在于根目录下，内有 path= c:\nix; c:\exe; d:\ struct; c:\windows\system32 （struct 为工作目录， exe 为 SHELXL97 程序， nix 为 SHELXTL 画图） 3.在了解 DOS 下操作之后，可在 WIN 的 WINGX 界面下进行结构解析工作，画图可用 XP 或 DIAMOND 软件进行。 一. 准备 1.检查是否有inf、dat和f2（设为sss.f2）文件 2.用 EDIT 或记事本打开 dat 或 inf 文件 , 并于记录本上记录下相关数据（下面所说的记录均指记录于记录本上）： ?从% crystal data项中，记下晶胞参数及标准偏差（cell）;晶体大小（crystal size）;颜色（crystal color）；形状（crystal habit）；测量温度（experiment temperature）； ? 从 R merge 项中，记下 Rint = ?.???? %; ? 从total reflections项中，记下总点数； ?从unique reflections项中，记下独立点数 3.双击桌面的 DOS 图标（或 Win2000 与 WinNT 的“命令提示符”） 4.键入 STRUCT（属于命令，大小写均可。下同） 5.进入欲处理的数据所在的文件夹（上面的 1~2 工作也可在这之后进行） 6.键入 XPREP sss.f2 （屏幕显示 DOS 的选择菜单） 7.选择 [4]，回车（下记为） 8.输入晶胞参数（建议在一行内将 6 个参数输入，核对后） 9.一系列运行（对应的操作动作均为按）之后，输入分子式（如，Cu2SO4N2C4H12。此分子式 仅为估计之用。注意：反应中所有元素都应尽可能出现，以避免后续处理的麻烦） 10.退出 XPREP 运行之前，机器要求输入文件名，此时一定要输入文件名，且不与初始的文件名同名。另外，不要输入扩展名。如可输入 aaa 11.检查是否产生有 PRP、PAR和INS文件（PRP文件内有机器对空间群确定的简要说明） 12.更名： REN aaa.f2 aaa.hkl 13.用EDIT或记事本打开aaa.ins文件，在第二~三行中，用实际的数据更改晶胞参数及其 偏差（注意：当取向改变了，晶胞参数也应随之对应），波长用实际波长。 二．解结构 14.键入 SHELXS aaa 或 XS aaa，（INS 文件中， TREF 为直接法， PATT 为 Pattersion 法） 15.XP，（进入 XP 程序）（可能产生计算内址冲突问题，注意选择处理） 16.READ or REAP aaa （aaa.res 为缺省值，若其它文件应是文件名.扩展名，如 aaa.ins） 17.FMOL ,（不要H原子时，为FMOL LESS $H，或FMOL后，KILL $H,）（读取各参数，屏幕上显示各原子的键合情况） 18.MPLN/N, （机器认为最好取向） 19.PROJ, （随意转动，直至你认为最理想取向） 20.PICK,（认为合理的位置投相应原子，如C原子键入C8，注意序号不能重复；不合理 的用剔除，暂时不确定用空格键放弃，完成或不再投原子时键入 "/"）
晶体解析步骤
AFIX, DFIX, HFIX, HIMP这些加氢的指令怎用阿(讨论一下加氢的基本步骤吧) 想请教有关加氢的问题(讨论一下加氢的基本步骤吧) 1. AFIX, DFIX, HFIX, HIMP这些加氢的指令怎用阿 2. 如果可以用Q峰加氢..要用哪个指令呢?指令怎样用?在哪个文件加? 3. 如果找不到Q峰,除了hadd之外，大家都是怎样加氢的??要用哪个指令?指令怎样用?在哪个文件加?? 4. 除了这些指令...大家都是怎样加的...大家谈谈加氢的经验和过程吧... 有高手可以把加?做??劫...我想一定?成?精攘帖的...也可以?初?者?考... 感谢分享...这些都是我们初学者要学的阿...拜托...热心的人回答一下吧 跟帖学习，就用过AFIX 和DFIX，没闹明白到底是怎么回事，q峰加氢应该就是用name指令吧？找不到Q峰就就加大Q峰的数量，还是没有就可以基本判断没有H了吧？溶剂水的加氢一直没搞定。 有高手知道??? 怎?是?人??? 老弟是不是没有shelx的说明书啊? 再次建议你静下心来好好看看. 1. AFIX, DFIX, HFIX, HIMP这些加氢的指令怎用阿 AFIX 内容比较多, 看书去. DFIX DANG是分别固定键长键角的. 形式 DFIX 0.85 0.01 O1 H1 DANG 1.35 0.01 H1 H2
HFIX 和AFIX差不多, 但在没加氢前用在.ins中,修正后,回直接帮你把理论的氢产生好. himp用来在xp中改变X-H的键长. 比如himp 0.82 h1 2. 如果可以用Q峰加氢..要用哪个指令呢?指令怎样用?在哪个文件加? plan 300 在.ins文件中加 3. 如果找不到Q峰,除了hadd之外，大家都是怎样加氢的??要用哪个指令?指令怎样用?在哪个文件加?? 碳上的氢, hadd足矣. O上的氢, 一般从Dif-fourier map找, 就是把合适的Q命名为H. 在xp中 先用envi o1之类的命令找到合适的Q, 在用name q1 h1改名. 4. 除了这些指令...大家都是怎样加的...大家谈谈加氢的经验和过程吧... 没有秘诀, 反复尝试. 如果数据比较好, 可以找到H; 如果不好, 要按照尽可能形成氢键的原则. 我有个quick question....何时需要固定键长呢??哪些原子上的氢需要固定键长键角? 像是3.里面的O上加的氢...在指定名称之后...需要固定键长吗??怎固定??? 谢谢老师的回应阿....你人真的太好了 哀...凌晨快要三点了....看这些指令头都晕了..... 引用xi2004老?的:""1. AFIX, DFIX, HFIX, HIMP这些加氢的指令怎用阿 AFIX 内容比较多, 看书去. DFIX DANG是分别固定键长键角的. 形式 DFIX 0.85 0.01 O1 H1 DANG 1.35 0.01 H1 H2 HFIX 和AFIX差不多, 但在没加氢前用在.ins中,修正后,回直接帮你把理论的氢产生好. himp用来在xp中改变X-H的键长. 比如himp 0.82 h1""