第一章习题
1.设晶格常数为a 的一维晶格,导带极小值附近能量E c (k)和价带极大值附近
能量E V (k)分别为:
E c =0
2
20122021202236)(,)(3m k h m k h k E m k k h m k h V -=-+ (1)禁带宽度;
(2) 导带底电子有效质量;
(3)价带顶电子有效质量;
(4)价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化
解:(1)
2. 晶格常数为0.25nm 的一维晶格,当外加102V/m ,107 V/m 的电场时,试分别
计算电子自能带底运动到能带顶所需的时间。 解:根据:t
k h
qE f ??== 得qE k t -?=? 补充题1
分别计算Si (100),(110),(111)面每平方厘米内的原子个数,即原子面密度
(提示:先画出各晶面内原子的位置和分布图)
Si 在(100),(110)和(111)面上的原子分布如图1所示:
(a )(100)晶面 (b )(110)晶面
(c )(111)晶面 补充题2
一维晶体的电子能带可写为)2cos 81cos 8
7()22ka ka ma k E +-= (, 式中a 为 晶格常数,试求
(1)布里渊区边界;
(2)能带宽度;
(3)电子在波矢k 状态时的速度;
(4)能带底部电子的有效质量*n m ;
(5)能带顶部空穴的有效质量*
p m
解:(1)由0)(=dk k dE 得 a
n k π= (n=0,±1,±2…) 进一步分析a n k π
)12(+= ,E (k )有极大值,
a n k π
2=时,E (k )有极小值 所以布里渊区边界为a n k π
)12(+=
(2)能带宽度为222)()ma k E k E MIN
MAX =-( (3)电子在波矢k 状态的速度)2sin 41(sin 1ka ka ma dk dE v -==
(4)电子的有效质量
能带底部 a
n k π2= 所以m m n 2*= (5)能带顶部 a
n k π)12(+=
, 且**
n p m m -=, 所以能带顶部空穴的有效质量3
2*m m p = 半导体物理第2章习题
1. 实际半导体与理想半导体间的主要区别是什么?
答:(1)理想半导体:假设晶格原子严格按周期性排列并静止在格点位置上,实际半导体中原子不是静止的,而是在其平衡位置附近振动。
(2)理想半导体是纯净不含杂质的,实际半导体含有若干杂质。
(3)理想半导体的晶格结构是完整的,实际半导体中存在点缺陷,线缺陷和面缺陷等。
2. 以As 掺入Ge 中为例,说明什么是施主杂质、施主杂质电离过程和n 型半导体。
As 有5个价电子,其中的四个价电子与周围的四个Ge 原子形成共价键,还剩余一个电子,同时As 原子所在处也多余一个正电荷,称为正离子中心,所以,一个As 原子取代一个Ge 原子,其效果是形成一个正电中心和一个多余的电子.