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纳米氧化铝为什么可以被用做抛光粉

纳米氧化铝为什么可以被用做抛光粉

纳米氧化铝为什么可以被用做抛光粉?

纳米氧化铝凭借其高硬度、稳定性好等优点而在加工制造等工业应用中有突出表现,是目前广泛采用的抛光磨料, 随着现代技术的发展, 在树脂抛光磨料生产中,尤其是对高精度研磨、镜面抛光加工, 细粒度磨具的应用领域也更加的广泛。

纳米氧化铝被用做抛光粉主要有以下几点:

(1)粉体粒径小,粒度均匀,在允许的范围之内;

(2)有较高的纯度99.99%,不含机械杂质;

(3)有良好的分散性和吸附性,以保证加工过程的均匀;

(4)粉末颗粒有一定的晶格形态,破碎时形成锐利的尖角,以提高抛光效率;

(5)有合适的硬度和密度,和水有很好的浸润性和悬浮性,因为抛光粉需要与水混合。

高硬度低韧性物质有很好的磨削比,适合做抛磨材料,氧化铝属于刚玉一种,纳米氧化锆,纳米金刚石微粉都是很好抛光材料,纳米金刚石一般做镜面抛光,高速轴承,汽车内燃机内壁抛光用途。

还需要注意的是,在研磨抛光时,无论是氧化铝抛光液、金刚石抛光液,或者抛光膏等其他抛光剂,尽量往转盘的中心位置喷洒或涂抹,以保证抛光剂尽可能少的流失和有效对样品表面研磨、抛光。

纳米氧化铝制备工艺技术

1. 200780101735 用于制备有控制结构与粒度的纳米多孔氧化铝基材料的方法和利用所述方法获得的纳米多孔氧化铝 2. 92104368 尺寸可控纳米、亚微米级氧化铝粉的制备方法 3. 95105843 纳米级氧化铝的生产工艺 4. 96117151 纳米添加氧化铝陶瓷的改性方法 5. 00125966 一种形态松散的纳米、亚微米级高纯氧化铝的制备方法 6. 01134059 纳米氢氧化铝的制备方法 7. 01126878 纳米尺寸的均匀介孔氧化铝球的合成方法 8. 01124685 一种作催化剂载体用的纳米级氧化铝及其制备方法 9. 01121545 高纯纳米级氧化铝的制备方法 10. 01113724 去除纳米氧化铝模板背面剩余铝的方法 11. 01132376 导电性纳米氮化钛-氧化铝复合材料的制备方法 12. 02139370 氧化铝纳米纤维的制备方法 13. 02138470 制备纳米材料的氧化铝模板及模板的制备方法 14. 02136111 利用氧化铝模板生长锗纳米线的方法 15. 02129021 纳米羟基磷灰石/氧化铝复合生物陶瓷的制备方法 16. 02116802 超纯纳米级氧化铝粉体的制备方法 17. 02109247 一种带有氧化铝壳的复合金属纳米粉末材料及其制备方法 18. 02138014 醇铝气相法制取纳米高纯氧化铝的方法 19. 200310106128 高纯纳米氧化铝纤维粉体制备方法 20. 03141495 一种氧化铝纳米纤维的制备方法 21. 03140530 一种表面包膜氧化铝的纳米二氧化钛颗粒的制备方法 22. 03129084 纳米氧化铝材料的制造方法 23. 03117871 纳米氧化铝胶体功能陶瓷涂料生产方法 24. 03800065 α-氧化铝纳米粉的制备方法 25. 03136606 一种纳米孔氧化铝模板的生产工艺 26. 03133529 纳米氧化铝浆组合物及其制备方法 27. 03102045 一种含有改性纳米级氧化铝的半合成烃类转化催化剂 28. 200480009462 纳米多孔超细α-氧化铝粉末及其溶胶-凝胶制备方法 29. 200420080270 一种去除纳米氧化铝模板背面铝层的装置 30. 200410063067 纳米氧化铝铜基体触头材料 31. 200410019998 一种基于多孔氧化铝模板纳米掩膜法制备纳米材料阵列体系的方法 32. 200410013256 一种无硬团聚的纳米氧化铝的制备方法 33. 200410010510 阳极氧化铝模板中一维硅纳米结构的制备方法 34. 200410067540 纳米氢氧化铝的制备方法 35. 200410077970 纳米氢氧化铝、粘土与乙烯-醋酸乙烯共聚物的阻燃复合材料

学术报告研讨会课程报告

电子设备散热技术研究 摘要:随着微电子技术的发展,使得电子器件的热流密度不断增加,这样势必对电子器件有更高的散热要求,因此有效地解决散热问题已成为电子设备必须解决的关键技术。针对现代电子设备所面临的散热问题,就自然对流散、强制风冷散热、液体冷却、热管、微槽道冷却、集成热路、热电致冷等常用的电子设备散热技术及某些前沿的研究现状、发展趋势及存在问题分别予以阐述,为电子散热设计提供参考价值。 随着现代电子设备对可靠性要求、性能指标和功率密度等的进一步提高,电子设备的热设计也越来越重要。功率器件是多数电子设备中的关键器件,其工作状态的好坏直接影响整机可靠性。功率器件尤其是大功率器件发热量大,仅靠封装外壳散热无法满足散热要求。所以需要选择合理的散热和冷却方法,设计有效的散热系统,把电子元器件的温度控制在规定的数值之下,在热源至外部环境之间提供一条低热阻通道,以确保热量能够顺利地散发出去[1]。据统计[2] ,55%的电子设备失效是由温度过高引起的。可见,电子设备的主要故障形式为过热损坏,因此对电子设备进行有效的散热是提高产品可靠性的关键。 1 传热方式 散热的目的是对电子设备的运行温度进行控制以保证其工作的稳定性和可靠性。电子设备的高效散热问题与传热学(包括热传导、对流和热辐射)和流体力学(包括质量、动量和能量守恒三大定律)等原理的应用密切相关。在实际中,单独出现是不存在,多为三种方式同时存在于复杂的换热过程中。设计时抓住某种主要的传热方式进行计算其他方式可忽略不计算。 1.1 导热 对于导热,不同材料所表现的方式不一样。气体导热是由于气体分子不规则运动时和相互碰撞的结果。金属导体中的导体主要靠自由电子的运动来完成。而非导电固体中的导热是通过晶格结构的振动来实现的。液体中导热主要靠弹性波的作用来实现。导热的基本定律是傅立叶定律。在纯导热过程中,单位时间内通过给定面积的热流量,正比于该垂直于导热方向的截面面积及器温升变化率,其计算公式为: t A x λ?Φ=-? 式中:Φ为热流量,W ;λ为导热系数,W/(m.℃),见表1;A 为导热方向上的截面面 积,m 2 ; t x ??为x 方向的温度变化率,℃/m ;负号表示热量传递的方向与温度梯度的方向相反。 表1 常用材料的导热系数(W/)m λ ℃

纳米三氧化二铝粉体的制备与应用进展

2011年6月北京化工大学北方学院JUN.2011 北京化工大学北方学院NORTH COLLEGE OF BEIJING UNIVERSITY OF CHEMICAL TECHNOLOGY 2008级纳米材料课程论文 题目: 纳米三氧化二铝的制备与应用进展 学院:理工学院专业:应用化学班级: 学号:姓名: 指导教师: 2011年6月6日

文献综述 前言 纳米材料一般是指在一维尺度小于100nm,并且具有常规材料和常规微细粉末材料所不具有的多种反常特性的一类材料。作为纳米材料的一种,Al2O3拥有小尺寸效应、表面界面效应、量子尺寸效应和宏观量子隧道效应一切特殊性质,所以具备特殊的光电特性、高磁阻现象、非线性电阻现象、在高温下仍具有的高强度、高韧、稳定性好等奇异特性,从而使Al2O3近年来备受关注研究并且在催化、滤光、光吸收、医药、磁介质及新材料等领域有广阔的应用前景[1]。 近年来从用途大体可以把氧化铝分为两类:第一类是用作电解铝生产的冶金氧化铝,随着氧化铝材料的广泛应用该类氧化铝占产量的大多数;第二类为非冶金氧化铝,主要包括非冶金用的氢氧化铝和氧化铝,也是通常所说的特种氧化铝,因其作用不同而与冶金氧化铝有较大的区别,主要表现在纯度、化学成分、形貌、形态等方面。由于粒径细小,纳米氧化铝可用来制作人造宝石、分析试剂以及纳米级催化剂和载体,用于发光材料可较大的提高其发光强度,对陶瓷、橡胶增韧,要比普通氧化铝高出数倍,特别是提高陶瓷的致密性、光洁度、冷热疲劳等。纳米氧化铝已用于YGA激光器的主要部件和集成电路基板,并用在涂料中来提高耐磨性[2]。随着人们对自身健康的关注和环保意识的增强,绿色化学理念正在材料制备与应用领域备受关注[3]。

金相显微镜的使用与金相样品的制备实验报告

金相显微摄像 一、实验目的: (一)了解普通金相显微镜的构造与使用方法。 (二)了解金相试样的制备方法。 (三)学习使用金相显微镜观察金相组织。 二、实验设备及材料: 实验设备:金相显微镜、砂轮机、抛光机、吹风机、玻璃板、培养皿、镊子。材料:金相试样、砂纸一套(800,1000,1200 )、抛光液(Al2O3)、腐蚀剂(4% 硝酸酒精溶液)、药棉、酒精 三、实验内容及步骤: 实验内容:(1)用机械抛光和化学侵蚀的方法制备金相样品 (2)观察试样的显微组织,并绘制组织图。 试验步骤:(1)金相样品的截取及镶嵌 (2)金相样品磨光 (3)金相样品的抛光 (4)金相样品的化学侵蚀 (5)显微组织的观察与记录

四、简述金相显微镜的放大原理:显微镜的成象放大部分主要由两组透镜组成。靠近观察物体的透镜叫物镜,而靠近眼睛的透镜叫目镜。通过物镜和目镜的两次放大,就能将物体放大到较高的倍数 五、简述金相显微镜的基本构造 金相显微镜通常由光学系统,照明系统和机械系统三大部分组成,有的显微镜还附有摄影装置 (一)金相显微镜机械装置 显微镜的机械装置要由镜座、镜臂、载物台、镜简、物镜转换器及调焦装置等。它是支持放大、照明部分的支架、具固定与调解光学镜头,固定和移动标本作用。 二)金相显微镜放大部分 放大部分包括接物镜和接目镜。 (三)金相显微镜照明部分 照明部分包括反光镜、滤光镜、虹彩光圈和聚光镜等 六、金相制样的基本过程包括几个方面?这几个方面各是哪些? 制备显微试样包括取样、磨光、抛光及浸蚀四个步骤 1、取样 取样时应根据被分析材料或零件的特点。选择有代表性的部分。试样最适合的尺寸是直径为12mm,高为10mm的圆柱体或面积为12*12㎜2,高10mm的长方体。根据材料性质不同,可用手锯、用车床切削、用锤子击碎以及用砂轮切割等方法截

实验2-纳米氧化铝粉体的制备及粒度分析

实验2 纳米氧化铝粉体的制备及粒度分析 一.实验目的 1.了解纳米材料的基本知识。 2.学习纳米氧化铝的制备。 3. 了解粒度分析的基本概念和原理。 4. 掌握马尔文激光粒度分析仪的使用。 二.实验原理 纳米氧化铝因其具有耐高温、耐腐蚀、比表面积大、反应活性高、烧结温度低,比普通氧化铝粉有着更优异的物化特性,在人工晶体、精细陶瓷、催化剂等方面得到广泛的应用。到目前为止纳米氧化铝粉末的制备方法众多,大致可分为气相法、固相法和液相化学反应法等,其中液相法制备Al2O3具有平均粒径小,分布范围窄、纯度高、活性高、设备简单、制备工艺影响因素可控等优点。 许多学者就纳米氧化铝的合成进行了广泛深入的研究。采用各种方法制备出纳米氧化铝粉体,但困扰纳米超细制备和应用的一个严重问题就是由于表面能造成的粉体的团聚,转相温度高而使颗粒明显长大,人们一般通过添加分散剂来克服团聚,因此对分散剂的合理选择,制备条件的有效控制及分散机理、分散效果的研究显得十分重要。 本实验以不同聚合度的聚乙二醇(PEG)为分散剂,采用沉淀法制备氢氧化铝胶体,胶体经800~1100℃高温煅烧2 h得到纳米氧化铝粉体,其在煅烧过程中经历Al(OH)3→AlOOH(勃姆石)→γ-Al2O3→δ-Al2O3→θ-Al2O3→α-Al2O3的相变过程,此方法能得到的最小平均粒径约为25 nm。 三.仪器与试剂 试剂:硫酸铝铵、浓氨水(25-28%)、聚乙二醇(PEG,聚合度n=200、600、2000、4000)、无水乙醇等,纯度均为AR级。 仪器:集热式恒温磁力搅拌器、40ml陶瓷坩埚、陶瓷研钵、500ml烧杯、真空水泵、布氏漏斗、抽滤瓶、马弗炉、50ml量筒、分析天平、空气塞、干燥箱、磁铁、容量瓶250ml、称量纸、滤纸、玻璃棒、钥匙、表面皿、分液漏斗。 Mastersizer 2000激光粒度仪。 四.实验步骤 1.查文献 《分散剂聚合度对纳米氧化铝粉体特性的影响》 2.样品的制备 将十二水合硫酸铝铵(M=453.33)配成0.2 mol/L的溶液(需加热溶解),分别取出100 ml加入3 g不同聚合度的聚乙二醇(PEG),恒温磁力搅拌(45±5 ℃)使PEG迅速溶解,保持水浴温度,用分液漏斗将25 ml氨水逐滴加入匀速搅拌的溶液中(10 min),形成白色胶状沉淀,氨水加完后,继续搅拌5 min,然后抽滤(抽滤时要防止滤纸穿破),用蒸馏水和无水乙醇分别洗涤1次,得到胶体样品。胶体经70~80℃烘干,再800~1100 ℃煅烧2h,得到α型氧化铝纳米粉体,研磨后保存。 查阅文献《粒度分析基本原理》。 五.结果与讨论 采用不同聚合度的PEG作分散剂,测氧化铝粉体的粒径分布曲线,曲线的峰宽反映体系中所含颗粒尺寸的均匀程度,峰宽越窄则粒子的粒度越均匀。 1.完成表1内容。

纳米氧化铝的研究

纳米氧化铝的研究及应用 [摘要] 纳米技术是当今世界最有前途的决定性技术,纳米科学与技术将对其他学科、产业和社会产生深远的影响。文章概述了纳米氧化铝的结构、性能、用途、制备等方面,更深入地了解了纳米氧化铝材料,并展望了纳米氧化铝材料的应用前景。 [关键字] 纳米氧化铝结构性能用途制备方法 [前言] 近年来, 纳米氧化铝材料备受到人们普遍关注,其广阔的应用前景引起了世界各国科技界和产业界的高度关注,因此作为21世纪具有发展前途的功能材料和结构材料之一,纳米氧化铝材料一直都是纳米材料研究领域的热点。 1 纳米氧化铝的结构与性质 Al2O3有很多同质异晶体,常见的有三种,即:α- Al2O3、β- Al2O3、γ- Al2O3。除β- Al2O3是含钠离子的Na2O-11Al2O3外,其他几种都是Al2O3的变体。β- Al2O3、γ- Al2O3晶型在1000~1600℃条件下,几乎全部转变为α- Al2O3。 ①α-Al2O3 α- Al2O3为自然界中唯一存在的晶型,俗称刚玉。天然刚玉一般都含有微量元素杂质,主要有铬、钛等因而带有不同颜色。刚玉的晶体形态常呈桶状、柱状或板状,晶形大都完整,具玻璃光泽。α- Al2O3

属六方晶系,氧离子近似于六方密堆排列,即ABAB???二层重复型。在每一晶胞中有4个铝离子进入空隙,下图为α- Al2O3结构中铝离子填入氧离子紧密堆积所形成的八面体间隙。 由于具有较高的熔点、优良的耐热性和耐 磨性,α- Al2O3被广泛的应用在结构与功 能陶瓷中。 ②β- Al2O3 β- Al2O3是一种含量很高的多铝酸盐矿物,它不是一种纯的氧化铝,其化学组成可近似用MeO-6 Al2O3和Me2O-11Al2O3表示(MeO 指CaO、BaO、SrO等碱土金属氧化物;Me2O指的是Na2O、K2O、Li2O)。β- Al2O3(Me2O-11Al2O3)由[NaO]-层和[Al11O12]+类型尖晶石单元交叠堆积而成,氧离子排列成立方密堆积,钠离子完全包含在[Na0]-层平面内,并且可以很快扩散。适当条件下,它具有很高的离子电导率,因而被广泛地应用于电子手表、电子照相机、听诊器和心脏起博器的生产中。 ③γ- Al2O3 γ- Al2O3是最常见的过渡型氧化铝,属立方晶系,为尖晶石结构,在自然界中是不存在的物质。由氧离子形成立方密堆积,Al3+填充在间隙中。γ- Al2O3得密度为3.42~3.62g/ cm3,在1000℃时可以缓慢的转变为α- Al2O3,是水铝矿(Al2O3?H2O或Al2O3?3H2O)或氢氧化铝在加热中生成的过渡氧化铝物质。γ相粒子主要用途是作为催化剂的载体,目前多采用在γ相中添加稀土元素等微量元素来改善它的表面

抛光、氧化铝表面典型缺陷

抛光、氧化铝表面典型缺陷 氧化表面典型缺陷(2) 该文件描述了以下表面缺陷,这些缺陷既可能由半成品或原材料缺陷造成,也可能在继续加工中产生: ●灰线 ●抛光纹 ●鱼尾 ●腐蚀 ●条纹 ●收缩凹陷 ●挤出纹 灰线(3) ●类型形态 ●线性缺陷,在光亮氧化表面出现 ●挤出方向及以小角度向挤出方向延伸的缺陷 ●可能原因 ●溶液中有非金属杂质,硼化钛和/或铝镁混氧化物。ALMINOX型材中因为杂质产生 的缺陷量<<0,5 %! ●型材/半成品裂缝 ●机械损伤,如划痕、拉弯时夹具造成的压痕等 ●严重的抛光纹 ●光学显微镜和REM中的边界 ●由杂质产生的灰线在光学显微镜中以“珍珠项链”点状缺陷出现。每个缺陷要么是 杂质,要么是含有杂质的孔,这些杂质在抛光槽中溶解。 如果对灰线是否由杂质造成存有疑问,可以进行大量的纵向切割,此后杂质线还必 须大量存在。 ●由表面预先损伤(如“划痕”)造成的灰线在光学显微镜中具有锋利的棱边。灰线 边缘通常有些凸出,并且通常很长(几厘米),而且可能是在和夹具接触的区域。 还有一个由于预先损伤造成灰线的标志是,零件上的灰线通常出现在相同的位置。 灰线:原因——非金属杂质(4) Pressrichtung 挤出方向 Aufsicht im Lichtmikroskop: 光学显微镜俯视图: Einschlüsse sind als einzelne Punkte zu erkennen 杂质是单独的点 weiss: regul?re intermetallische Phasen 白色:正常的金属间的状态 schwarz: nicht-metallische Einschlüsse 黑色:非金属杂质 L?ngsschliff im REM REM中纵向磨片 L?ngsschliff im Lichtmikroskop 光学显微镜中纵向磨片

化学机械抛光液(CMP)氧化铝抛光液具汇总

化学机械抛光液(CMP)氧化铝抛光液 一、行业的界定与分类 (2) (一)化学机械抛光 (2) 1、化学机械抛光概念 (2) 2、CMP工艺的基本原理 (2) 3、CMP技术所采用的设备及消耗品 (2) 4、CMP过程 (2) 5、CMP技术的优势 (2) (二)化学机械抛光液 (3) 1、化学机械抛光液概念 (3) 2、化学机械抛光液的组成 (3) 3、化学机械抛光液的分类 (3) 4、CMP过程中对抛光液性能的要求 (3) (三)化学机械抛光液的应用领域 (3) 二、原材料供应商 (4) 三、化学机械抛光液行业现状 (4) (一)抛光液行业现状 (4) 1、国际市场主要抛光液企业分析 (4) 2、我国抛光液行业运行环境分析 (4) 3、我国抛光液行业现状分析 (5) 4、我国抛光液行业重点企业竞争分析 (5) (二)抛光液行业发展趋势 (5) (三)抛光液行业发展的问题 (5) 四、需求商 (6) (一)半导体硅材料 (6) 1、电子信息产业介绍 (6) 2、半导体硅材料的简单介绍 (6) (二)分立器件行业 (7) (三)抛光片 (8)

化学机械抛光液行业研究 一、行业的界定与分类 (一)化学机械抛光 1、化学机械抛光概念 化学机械抛光(英语:Chemical-Mechanical Polishing,缩写CMP),又称化学机械平坦化(英语:Chemical-Mechanical Planarization),是半导体器件制造工艺中的一种技术,用来对正在加工中的硅片或其它衬底材料进行平坦化处理。 2、CMP工艺的基本原理 基本原理是将待抛光工件在一定的下压力及抛光液(由超细颗粒、化学氧化剂和液体介质组成的混合液)的存在下相对于一个抛光垫作旋转运动,借助磨粒的机械磨削及化学氧化剂的腐蚀作用来完成对工件表面的材料去除,并获得光洁表面。 3、CMP技术所采用的设备及消耗品 主要包括,抛光机、抛光液、抛光垫、后CMP清洗设备、抛光终点检测及工艺控制设备、废物处理和检测设备等,其中抛光液和抛光垫为消耗品。 4、CMP过程 过程主要有抛光、后清洗和计量测量等部分组成,抛光机、抛光液和抛光垫是CMP工艺的3大关键要素,其性能和相互匹配决定CMP能达到的表面平整水平。 5、CMP技术的优势 最初半导体基片大多采用机械抛光的平整方法,但得到的表面损伤极其严重,基于淀积技术的选择淀积、溅射玻璃SOG(spin-on-glass)、低压CV D(chemicalvaporde-posit)、等离子体增强CVD、偏压溅射和属于结构的溅射后回腐蚀、热回流、淀积-腐蚀-淀积等方法也曾在IC工艺中获得应用,但均属局部平面化技术,其平坦化能力从几微米到几十微米不等,不能满足特征尺寸在

纳米氧化铝粉体的制备与应用进展_何克澜

纳米氧化铝粉体的制备与应用进展 *何克澜,林 健,覃 爽 (同济大学材料科学与工程学院,上海 200092) 摘要:纳米氧化铝粉体在化工、陶瓷等行业拥有广泛的应用前景,不断开发纳米氧化铝材料的新 型制备工艺,对于提高产品质量并不断开拓其应用领域具有重要意义。本文综述了氧化铝纳米 粉体材料的各种制备工艺,并对其近年来最新研究、应用进展进行了阐述和分析。 关键词:纳米氧化铝;制备;应用 中图分类号:T Q 171.6+ 11 文献标识码:A 文章编号:1000-2871(2006)05-0048-05D e v e l o p m e n t o f P r e p a r a t i o n a n dA p p l i c a t i o n o f A l u m i n a N a n o p o w d e r H EK e -l a n ,L I NJ i a n ,Q I NS h u a n g (S c h o o l o f M a t e r i a l s S c i e n c e a n dE n g i n e e r i n g ,T o n g j i U n i v e r s i t y ,S h a n g h a i 200092,C h i n a ) A b s t r a c t :N o w a d a y s ,a l u m i n an a n o p o w d e r i s c o m m o n l ya n dw i d e l yu s e di nm a n yf i e l d s ,s u c ha s c h e m i c a l i n d u s t r y ,c e r a m i ci n d u s t r y .I t i sv e r yi m p o r t a n t t od e v e l o pn e w t e c h n i q u e so f a l u m i n a n a n o p o w d e r f o r i m p r o v i n g p r o d u c t q u a l i t y a n d e x p a n d i n gt h e i r a p p l i c a t i o n s .T h i s a r t i c l e p r e s e n t e da v a r i e t y o f m e t h o d s f o r p r o d u c i n g a l u m i n a n a n o p o w d e r ,a n de x p o u n d e da n da n a l y z e dr e c e n t r e s e a r c h p r o g r e s s a n d a p p l i c a t i o n s o f a l u m i n a n a n o p o w d e r . K e y w o r d s :a l u m i n a n a n o p o w d e r ;p r e p a r a t i o n ;a p p l i c a t i o n 1 前言 纳米材料是指其一维尺度小于100n m ,且具有常规材料乃至常规微细粉末材料所不具备的许多反常特性的一类材料。纳米氧化铝材料的特殊光电特性、高磁阻现象、非线性电阻现象、在高温下仍具有的高强、高韧、稳定性好等奇异特性,以及各种纳米粉体材料共有的小尺寸效应、表面界面效应、量子尺寸效应和宏观量子隧道效应,使其在催化、滤光、光吸收、医药、磁介质及新材料等领域有广阔的应用前景。 氧化铝是在地壳中含量非常丰富的一种氧化物。氧化铝有多种晶型,其中α-A l 2O 3属高温稳定晶型,具有较高的熔点和很高的化学稳定性。通常可使用拜尔法和电熔法来生产α-A l 2O 3粉体,此类粉体广泛运用于制备各种氧化铝陶瓷。而具有量子效应的纳米氧化铝粉体还可带来高化学活性、高比表面能、独特光吸收作用等各种优异性能,可广泛应用于冶金、机械、化工等领域 [1,2]。因此研究和开发纳米氧化铝材料的制 备工艺及其应用,具有重要的社会效益和经济价值。 第34卷第5期2006年10月玻璃与搪瓷G L A S S &E N A M E L V o l .34N o .5O c t .2006*收稿日期:2006-03-14

氧化铝纳米材料+-教学教材

氧化铝纳米材料+-

沉淀法制备纳米级Al2O3中的团聚控制 学号:姓名: 自从Gleiter等在20世纪80年代中期制得纳米级Al2O3,人们对这一高新材料的认识不断加深并陆续发现它的更多特性。作为一种多功能的超微粒子,纳米Al2O3已广泛应用于结构及功能陶瓷、复合材料、催化剂载体、荧光材料、红外吸收材料等[1]。由于氧化铝陶瓷来源廉价,且具有耐腐蚀、耐高温、高硬度、高强度、抗磨损、抗氧化和绝缘性好等良好特性,在冶金、化工、电子、国防、航天及核工业等高科技领域得到了广泛的应用。制备纳米Al2O3是为进一步制备纳米Al2O3高分子复合材料提供优质原料。如何制备出价格低廉、工艺简单、性能优良的纳米氧化铝粉体一直是国内外研究的热点[2,3]。目前,制备纳米Al2O3粉体主要有固相法、气相法和液相法三大类。固相法操作简单,但生成颗粒粒径难以控制,且分布不均;气相法设备要求严格,操作复杂;液相法成本较低,生产设备和工艺过程简单,生成颗粒纯度高,粒径小且分布均匀,是制备纳米陶瓷粉体最常用的方法[4]。常用的液相法有:溶胶-凝胶法,水热法,微乳液法,沉淀法[5]。本文主要介绍沉淀法制备纳米氧化铝粉体的不同反应体系,并着重介绍了近几年在颗粒细化、减少团聚等研究方面取得的主要进展。 沉淀法就是在金属盐溶液中加入适当的沉淀剂,得到前驱体沉淀,再经过过滤、洗涤、干燥、煅烧等工艺得到所要的产物。沉淀法因原料成本低,设备及工艺简单,易于工业化,在生产高纯超细氧化铝粉末时有其优势[6]。近年来研究使用的不同反应体系主要有以下三种: (1)铝盐+碳酸铵体系

a.以硝酸铝为母液,碳酸铵为沉淀剂,其反应方程为: A1(NO3)3+2 (NH4)2CO3+H2O= NH4AlO(OH)HCO3+3NH4NO3+CO2该反应体系在酸性(pH>5)和碱性条件下都可以得到纳米粉体,但在碱性条件下结果较好。两种添加顺序,将A1(NO3)3溶液加(NH4)2CO3溶液或相反,都可以得到碳酸铝胺NH4AlO (OH)HCO3沉淀,在1150℃下煅烧沉淀可得到粒径小于50nm 的粉体[7]。 b.以硫酸铝铵为母液,碳酸氢铵为沉淀剂,其反应方程式为: NH4A1(SO4)2+4NH4HCO3 = NH4AlO (OH)HCO3 +2 (NH4 )2SO4 +3CO2+H2O 这是目前研究最多的反应体系。两种添加顺序也都可以得到沉淀。采用先缓漫滴加碳酸氢铵至稍过量,然后以喷雾混合的方式,可使沉淀过程保持均相,获得平均粒径为30nm 的NH4AlO(OH)HCO3前驱体粉末。喷雾混合方式可使溶液的pH 值迅速上升,有利于晶核形成,而前驱沉淀物的晶核数目越多,产物的粒径就越小[8]。 (2)无机盐+尿素均相沉淀体系 在反应体系中加入尿素.随着温度升高,尿素分解生成沉淀剂 NH4OHCO(NH2)2+3H2O=CO2 +2NH4OH 沉淀剂NH4OH 在溶液中均匀分布,使沉淀均匀缓慢地生成,在沉淀过程中反应容器内一直保持均相。此方法制备的纳米氧化铝具有粒度小、粒径分布窄,制备成本低、工艺简单等优点,但同时由于其沉淀产物主要为氢氧化铝,因此存在较为严重的团聚问题。

纳米氧化铝的制备与应用

纳米氧化铝的制备与应用 作者:XXX 摘要:纳米技术日新月异,纳米材料科学也不断的进步。纳米氧化铝作为纳米材料的一员,因其特殊的性能成为一种用途广泛的纳米材料,其制备方法不断涌现,其应用范围也不断拓展,已逐渐成为重要的无机纳米材料。对纳米氧化铝的制备方法与应用的领域做进一步的研究,有着十分重要的经济意义和现实意义。本文主要介绍了纳米氧化铝的制备方法和应用现状,并对其研究前景作了简要展望。 关键词:纳米氧化铝,制备,应用 引言 纳米氧化铝是一种尺寸为1~ 100nm的超微颗粒, 具有强的体积效应、量子尺寸效应、表面效应和宏观量子隧道效应, 在光、电、热力学和化学反应等许多方面表现出一系列的优异性能, 广泛用作精细陶瓷、复合材料、荧光材料、湿敏性传感器及红外吸收材料等[1,2]。自80年代中期Gleiter 等制得纳米级Al2O3粉末以来, 人们对这一高新材料的认识不断加深并发现其中有许多特性, 本文试对其制备方法与应用研究取得的进展作一综述。 1 纳米Al2O3的制备技术 目前纳米Al2O3的制备方法可归纳为固相法、气相法和液相法三大类, 但随着科技的不断发展和对不同物理、化学特性超微粒的需求, 在上述三类方法的基础上又衍生出许多新的技术。 1. 1 气相合成法 气相法制备高纯超细粒子氧化铝主要采用化学气相沉积法( Chemical Vapor Deposition法) , 是以金属单质、卤化物、氢化物或有机金属化合物为原料, 通过气相加热分解和化学反应合成微粒。 1. 1. 1 火焰CVD[ 3, 4] 借助惰性气体将反应物送进反应室中, 燃料气体的火焰将反应物蒸发, 气态反应物被氧化成粒径为10~50nm的超细高纯氧化铝粉末。反应物母体为金属铝的碳水化合物、氧化铝; 氧化剂为氧气; 产生火焰的燃料气体是氢气、甲烷、乙烯、乙炔或它们的混合气体, 并用惰性气体稀释; 所用燃烧炉是逆流扩散火焰燃烧炉。美国Chen Y J[5]等利用此法制备出粒径为30~ 50nm的无团聚氧化铝纳米粒子。 1. 1. 2 激光热解CVD法 意大利的E Borsella[6]利用三甲基铝Al(CH3) 3和N2O作为气相反应物, 加入C2H4作为反应敏化剂,采用CO2激光( C2H4在CO2激光发射波长处有共振吸收) 加热进行反应, 然后在1200~ 1400 下进行热处理成功地合成了粒径为15~ 20nm的Al2O3粒子。经X射线衍射、电镜和BET表面积测试, 粉末主要为球形单晶纳米粒子。 1. 1. 3 激光加热蒸发CVD法 日本专利[ 7]提出氧化铝陶瓷( 纯度为99. 99%)作为蒸发源, 放在一个压力为0. 01Pa的真空泵中,通O2、CO或CO2, 使压力保持在15Pa左右, 用CO2激光照射氧化铝陶瓷使之蒸发, 蒸发出的氧化铝在气体中迅速冷却得到超细高纯氧化铝。Bharti[ 8]用此法制备20~ 30nm的氧化铝球形粒子。该方法具有能量转换效率高、粒子大小均一、不团聚、粒径小、可精确控制等优点, 但成本高、产率低、难以实现工业化生产。 1. 2 液相合成法

电镜扫描制样全流程

电镜扫描制样全流程 中南大学能源科学与工程学院谢德成 随着电镜扫描技术的迅速发展,目前采用电镜扫描技术对各种材料进行元素成分分析的需求越来越多,为方便非材料系学生学习并自己制作电镜扫描所需样品,特写此文以供参考。 一、制样 制样可以分为热镶制样和冷镶制样两种。 1、热镶制样 热镶制样就是将需要扫描的原始样品和热镶嵌料先后放入热镶机中,开机加热当温度高于130o C后镶嵌料融化包裹样品,最后得到圆筒状的镶嵌样品。扫描样品位于圆筒的下表面中心,如图1所示。热镶机分两种,一种是手动的,需要手工缓慢压紧样品与逐渐融化的热镶嵌料;另一种是全自动热镶机,只需加入样品和热镶嵌料即可。 热镶制样所需材料:a、原始样品b、热镶嵌料c、热镶机(可到粉冶院实验中心三楼制样室)。 热镶制样操作简单,镶嵌样品美观,但是加热与冷却过程费时,平均制作一个镶嵌样品需30分钟。 2、冷镶制样 冷镶制样就是将需要扫描的样品放入圆筒状模具底部中心,再将流态的镶嵌料注入圆筒状模具,等流态的镶嵌料固化后形成圆筒状的镶嵌样品,如图2所示。冷镶制样方法较多,常用的有两种。第一种是采用牙托粉作为镶嵌料,第二种是采用环氧树脂E-44,邻苯二甲酸二丁脂,乙二胺三种溶液(可到升华科研所买)按质量100:20:7配比后隔水加热形成流态的镶嵌料。 冷镶制样所需材料:a、原始样品b、流态镶嵌料c、圆筒状模具(可用薄塑料管)。 冷镶制样的镶嵌料制作较复杂,镶嵌样品较粗糙,但是所需时间短,可一次性制作多个镶嵌样品。 二、预磨 制样后得到的镶嵌样品中样品被镶嵌料所包裹,需要将样品下表面的镶嵌料磨掉直至露出样品内部水平光滑截面为止。预磨时需要采用水磨砂纸和预磨机,水磨砂纸按规格可以分为粗磨砂纸:80目,150目,180目,240目,280目,320目;精磨砂纸:400目,500目,600目,800目,1000目,1200目;超精

氧化铝纳米材料+

沉淀法制备纳米级Al2O3中的团聚控制 学号:: 自从Gleiter等在20世纪80年代中期制得纳米级Al2O3,人们对这一高新材料的认识不断加深并陆续发现它的更多特性。作为一种多功能的超微粒子,纳米Al2O3已广泛应用于结构及功能瓷、复合材料、催化剂载体、荧光材料、红外吸收材料等[1]。由于氧化铝瓷来源廉价,且具有耐腐蚀、耐高温、高硬度、高强度、抗磨损、抗氧化和绝缘性好等良好特性,在冶金、化工、电子、国防、航天及核工业等高科技领域得到了广泛的应用。制备纳米Al2O3是为进一步制备纳米Al2O3高分子复合材料提供优质原料。如何制备出价格低廉、工艺简单、性能优良的纳米氧化铝粉体一直是国外研究的热点[2,3]。目前,制备纳米Al2O3粉体主要有固相法、气相法和液相法三大类。固相法操作简单,但生成颗粒粒径难以控制,且分布不均;气相法设备要求严格,操作复杂;液相法成本较低,生产设备和工艺过程简单,生成颗粒纯度高,粒径小且分布均匀,是制备纳米瓷粉体最常用的方法[4]。常用的液相法有:溶胶-凝胶法,水热法,微乳液法,沉淀法[5]。本文主要介绍沉淀法制备纳米氧化铝粉体的不同反应体系,并着重介绍了近几年在颗粒细化、减少团聚等研究方面取得的主要进展。 沉淀法就是在金属盐溶液中加入适当的沉淀剂,得到前驱体沉淀,再经过过滤、洗涤、干燥、煅烧等工艺得到所要的产物。沉淀法因原料成本低,设备及工艺简单,易于工业化,在生产高纯超细氧化铝粉末时有其优势[6]。近年来研究使用的不同反应体系主要有以下三种: (1)铝盐+碳酸铵体系 a.以硝酸铝为母液,碳酸铵为沉淀剂,其反应方程为: A1(NO3)3+2 (NH4)2CO3+H2O= NH4AlO(OH)HCO3+3NH4NO3+CO2该反应体系在酸性(pH>5)和碱性条件下都可以得到纳米粉体,但在碱性条件下结果较好。两种添加顺序,将A1(NO3)3溶液加(NH4)2CO3溶液或相反,都可以得到碳酸铝胺NH4AlO (OH)HCO3沉淀,在1150℃下煅烧沉淀可得到粒径小于

金相试样的制备实验指导书讲解

(三)金相试样制备 随着科学技术的发展,研究金属材料内部组织的手段也在不断增加。然而光学金相显微分析仍然是最基本的方法。 光学金相显微分析的第一步是制备试样,将待观察的试样表面磨制成光亮无痕的镜面,然后经过浸蚀才能分析组织形态。如因制备不当,在观察面上出现划痕、凹坑、水迹、变形层或浸蚀过深过浅都会影响正确的分析。因此制备出高质量的试样对组织分析是很重要的。 金相试样制备过程一般包括:取样、粗磨、细磨、抛光和浸蚀五个步骤。 1.取样 从需要检测的金属材料和零件上截取试样称为"取样"。取样的部位和磨面的选择必须根据分析要求而定。截取方法有多种,对于软材料可以用锯、车、刨等方法;对于硬材料可以用砂轮切片机或线切割机等切割的方法,对于硬而脆的材料可以用锤击的方法。无论用哪种方法都应注意,尽量避免和减轻因塑性变形或受热引起的组织失真现象。试样的尺寸并无统一规定,从便于握持和磨制角度考虑,一般直径或边长为15~20mm,高为12~18mm比较适宜。对那些尺寸过小、形状不规则和需要保护边缘的试样,可以采取镶嵌或机械夹持的办法,如图2-l所示。 图1-17镶嵌及夹持试样 a)镶嵌试样b)夹持试样 金相试样的镶嵌,是利用热塑性塑料(如聚氯乙烯),热凝性塑料(如胶木粉)以及冷凝性塑料(如环氧树脂+固化剂)作为填料进行的。前两种属于热镶填料,热镶必须在专用设备一镶嵌机上进行。第三种属于冷镶填料,冷镶方法不需要专用设备,只将适宜尺寸(约φl5~20mm)的钢管、塑料管或纸壳管放在平滑的塑料(或玻璃)板上,试样置于管内待磨面朝下倒入填料,放置一段时间凝固硬化即可。 2.粗磨 粗磨的目的主要有以下三点: 1)修整有些试样,例如用锤击法敲下来的试样,形状很不规则,必须经过粗磨,修整为规则形状的试样; 2)磨平无论用什么方法取样,切口往往不十分平滑,为了将观察面磨平,同时去掉切

纳米氧化铝粉体

2012?2013学年秋季 “材料化学”课程 期中考试课程论文 论文题目:纳米氧化铝粉体 的制备与应用 作者唐俊 学号0910412107 授课老师柯凯

纳米氧化铝粉体的制备与应用 摘要本文从氧化铝的结构和物性、纳米氧化铝粉体的制备工艺和应用等方面对纳米氧化铝粉体进行了介绍。 关键词氧化铝陶瓷纳米制备应用 1. 前言 陶瓷材料具有金属和其他材料不可比拟的耐高温、耐腐蚀、耐磨损等优异的性能,在高技术领域有着十分广泛的应用前景,但其固有的脆性和可靠性极大地限制了陶瓷材料的推广应用。随着纳米技术的发展,纳米陶瓷应运而生,由于纳米陶瓷具有许多独特的性能[1],人们对纳米陶瓷寄予了很大的希望,希望以此来克服陶瓷材料的脆性,使陶瓷具有像金属一样的韧性和可加工性。世界各国的科研工作者正在不断研究开发纳米陶瓷粉体,并以此为原料合成高性能纳米陶瓷[2-4]。 o 氧化铝陶瓷是目前世界上产量最大、用途最广的陶瓷材料之一,它在自然界中储量丰富,最常见的是以不纯的氢氧化物形式存在,并由此构成铝矶土矿。热力学稳定的a Al 2O3陶瓷属刚玉结构,具有高强度、高硬度、耐磨损、耐腐蚀、耐高温、绝缘性好、比表面积大等优异的特性,在陶瓷、化工、电路等方面得到了广泛的应用[5,6]。 2. 氧化铝的晶体结构和基本物性 了解和掌握氧化铝的结构和物性,是制备纳米氧化铝粉体和制备各种特性氧化铝陶瓷的基础。 2.1 氧化铝的晶体结构

氧化铝是目前氧化物中比较重要的一种,它广泛应用于各种结构 和功能陶瓷中,氧化铝有很多的晶型,不同的晶型有着不同的应用。 Al 2O3有很多种晶型,目前已发现的在十二种以上,其中常见的 有a , B , 丫等。除修AI2O3是含钠离子的Na2O?11Al2O3以外,其它几种都是AI2O3的变体。其中a是高温稳定晶型,其它均为不稳定的过渡晶型,在咼温下可以转变为a相。 氧化铝结构一般的分类方法为:首先根据02-的排列结构分成 FCC和HCP两大类,然后再在02-排列结构的每一大类中再依据A13+ 的亚点阵的不同分成不同的相,氧化铝常见物相结构见表1。在这些相中,a相是稳定相,其余是亚稳相,随着温度的升高,这些过渡型亚稳相的氧化铝都要向a相(稳定相)转变,这种相变是晶格重构型相转变,是不可逆相转变。 表1氧化铝相的分类以及相关参数 a-AI 2O3的晶体结构:O2-呈Hep排列,A13+依次占据其2/3八面体间隙,图1是a-AI 2O3晶体在{0001}面投影⑺。 2.2 a-AI 2O3陶瓷的性质

PEG粒度分布-分散剂聚合度对纳米氧化铝粉体特性的影响_顾峰

分散剂聚合度对纳米氧化铝粉体特性的影响3 顾 峰,沈 悦,徐 超,夏义本,张建成 (上海大学材料学院电子信息材料系,上海201800) 摘 要: 以不同聚合度的聚乙二醇(PEG)为分散剂,采用沉淀法制备氢氧化铝胶体,胶体经800~1100℃高温煅烧得到纳米氧化铝粉体。对粉体进行了颗粒分布、XRD谱、HR TEM形貌及电子衍射等分析。结果表明分散剂(PEG)的聚合度对纳米氧化铝的粒度分布有着重要的影响。当用PEG2000作分散剂时制备出的粉体颗粒细而均匀,平均粒径为25nm,无明显团聚与颗粒长大现象;经1000℃/2h煅烧已完全转化为α2 Al2O3。文章对不同聚合度的分散剂的分散机理进行了讨论。 关键词: 氢氧化铝胶体;纳米氧化铝;分散剂;聚合度中图分类号: TB383文献标识码:A 文章编号:100129731(2005)022******* 1 引 言 纳米氧化铝因其具有耐高温、耐腐蚀、比表面积大、反应活性高、烧结温度低,比普通氧化铝粉有着更优异的物化特性,在人工晶体、精细陶瓷、催化剂等方面得到广泛的应用[1~5]。到目前为止纳米氧化铝粉末的制备方法众多,大致可分为气相法、固相法和液相化学反应法[1~3]等,其中液相法制备Al2O3具有平均粒径小,分布范围窄、纯度高、活性高、设备简单、制备工艺影响因素可控等优点[1]。 许多学者就纳米氧化铝的合成进行了广泛深入的研究。采用各种方法制备出纳米氧化铝粉体,但困扰纳米超细制备和应用的一个严重问题就是由于表面能造成的粉体的团聚[4~8],转相温度高而使颗粒明显长大[5],人们一般通过添加分散剂来克服团聚,因此对分散剂的合理选择,制备条件的有效控制及分散机理、分散效果的研究显得十分重要。 本实验选用聚乙二醇为分散剂,采用化学沉淀法制备具有高活性的纳米氧化铝粉体,通过XRD、TEM、Zetasizen粒度仪等分析手段重点研究了聚乙二醇的聚合度对氧化铝粉体的颗粒度及物化特性的影响。 2 实 验 2.1 实验试剂 本实验所用化学试剂为硫酸铝铵(AAS)、氨水(A W)、聚乙二醇(PEG)200、聚乙二醇(PEG)800、聚乙二醇(PEG)2000、聚乙二醇(PEG)3000、聚乙二醇(PEG)4000、乙醇等,纯度均为AR级。 2.2 样品的制备 将硫酸铝铵(AAS)配制成0.1mol/L的溶液,分别取出200ml加入6g不同聚合度的聚乙二醇(PEG),放入45℃水浴中搅拌使得聚乙二醇(PEG)迅速溶解,保持水浴温度,将50ml氨水逐滴加入匀速搅拌的溶液中,形成白色胶状沉淀,反应后抽滤,用蒸馏水和无水乙醇分别洗涤两次,得到胶体样品。胶体经60~70℃烘干,800~1100℃煅烧2h,形成了纳米Al2O3粉体。 2.3 性能表征 采用英国MAL V ERE公司的Zetersizer3000HS 型粒度仪测定了纳米氧化铝粉体的颗粒度及其分布,测试时将煅烧后的氧化铝粉体用去离子水稀释,超声震荡10min。 以DMAX2ⅢC型X射线衍射仪对不同温度煅烧的氧化铝粉体进行物相分析,衍射条件:Target Cu; Voltage40kV;Current100mA;Scan speed2°/min。 采用日本J EM22010F场发射高分辨率透射电镜观察纳米氧化铝粉体的颗粒形貌并拍摄了电子衍射照片。 3 结果与分析 3.1 分散剂的聚合度对纳米氧化铝粒径的影响 图1是采用不同聚合度的聚乙二醇(PEG)作分散剂,经1000℃/2h煅烧所制得的氧化铝粉体的粒径分布曲线,曲线的峰宽反映体系中所含颗粒尺寸的均匀程度,峰越尖,峰宽越窄则粒子的粒度越均匀。分散剂聚合度与粉体分布的峰宽和平均粒径的关系如表1所示。从图1和表1可知,以聚合度较小的PEG200分散所制得的氧化铝粉体的峰宽较宽(150~450nm),平均粒径较大(95nm);随着分散剂聚合度的增加,峰宽和平均粒径明显减小,当聚合度为2000时,峰宽减小为10~80nm,平均粒径仅为25nm;尽管聚合度为800时的峰宽略小于聚合度为2000时的峰宽,但平均粒径明显增加。随着分散剂聚合度进一步增加,峰宽和平均粒径反而明显加大,当聚合度为4000时,峰宽达50~450nm,平均粒径增大到90nm。 813功 能 材 料2005年第2期(36)卷 3基金项目:上海2应用材料研究与发展基金资助项目(0208);上海市教委资助项目(02A K26) 收稿日期:2004204205 通讯作者:顾 峰 作者简介:顾 峰 (1963-),男,上海市崇明县人,本科,高级实验师,主要从事功能陶瓷的研究。

电极打磨

CHI660电化学工作站配套的电极抛光材料的使用说明,希望对你有用! 《电化学工作站电极抛光材料的使用说明》(在使用抛光材料前请全面、仔细地阅读该说明)本分电极抛光材料包括一下物品:一瓶1.0μm的阿尔法氧化铝/矾土粉末;一瓶0.3μm 的阿尔法氧化铝/矾土粉末;一大瓶0.05μm的伽玛氧化铝/矾土粉末;两张供粘贴抛光垫的玻璃板;5张Φ=73mm的灰色1200粗砂卡宾纸盘;5张Φ=73mm的白色尼龙抛光垫;10片Φ=73mm的棕褐色细纹布抛光垫。 虽然新买到的电极已经抛光可以使用,可是在实验之前仍需重新清洁电极表面。对于这种清洁一般只要用0.05μm的氧化铝粉末就足够了。但是如果电极表面有划痕,这就需要经过1.0μm、0.3μm 、0.05μm的氧化铝粉末依次抛光。在每一步骤中都要检查电极的表面,电极表面应该是均匀一致的,否则就应该用相同颗粒度的氧化铝粉继续抛光。如果用1.0μm 的氧化铝不能抛光打磨掉划痕的话,可以先使用灰色1200粗砂卡宾纸盘打磨,接着用1.0μm、0.3μm 、0.05μm的氧化铝粉末依次抛光。在用0.05μm的氧化铝粉末抛光之后,电极的表面应该像镜面一样光泽闪亮的。 尼龙抛光垫是用来涂敷1.0μm、0.3μm的氧化铝抛光粉末的,棕褐色细纹布抛光垫是用来涂敷0.05μm的氧化铝抛光粉末的。两种抛光垫背后都带粘胶,揭掉覆盖在粘胶上的纸,紧紧地把抛光垫压在干燥清洁的玻璃板上,使玻璃板和粘胶之间没有被封闭的空气泡。 抛光的时候,先将少量氧化铝抛光粉末撒在抛光垫上,而后用蒸馏水将抛光垫打湿。抛光时要垂直抓紧电极,但不要用力太大。如果抛光垫干了的话,加蒸馏水打湿后继续进行抛光。注意: 在用下一种颗粒度更小的抛光粉末抛光时一定要用大量的水来彻底冲洗电极和手。如果不小心把大颗粒度的抛光粉末携带到小颗粒度的抛光粉末中的话,用相应的小颗粒度抛光粉末就无论如何也达不到预期的抛光效果了。 在移取干的抛光粉末时一定要小心。切不可把大颗粒度的粉末带入到小颗粒度的粉末的瓶里。不要调换瓶盖,从不同的瓶中取氧化铝粉沫时对不同的瓶子要分别使用不同的药匙。

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