纳米二氧化硅粉体的制备

纳米二氧化硅粉体的制备

刘立泉;何永;张崇;李大成

【期刊名称】《电子元件与材料》

【年(卷),期】2000(019)004

【摘要】以工业硅酸钠和盐酸为原料,采用化学沉淀法制备出纳米二氧化硅.工艺条件为:温度25～35℃、pH值4～6、反应液质量浓度1.15g/L、反应时间10min,添加一定量表面活性剂和分散剂.制得的二氧化硅,粒径40～50nm、比表面积大、分散性好、质量优良,已用于工业生产.

【总页数】2页(28-29)

【关键词】二氧化硅;纳米材料;粉体制备

【作者】刘立泉;何永;张崇;李大成

【作者单位】成都蜀都电子粉体材料厂,四川,成都,610063;成都蜀都电子粉体材料厂,四川,成都,610063;成都蜀都电子粉体材料厂,四川,成都,610063;成都蜀都电子粉体材料厂,四川,成都,610063

【正文语种】中文

【中图分类】TM215.7

【相关文献】

1.等离子体法制备纳米二氧化钛、二氧化硅 [J],

2.纳米级二氧化硅玻璃粉的制备及其特性 [J], 唐新桂; 周歧发

3.利用硅灰石为原料制备纳米二氧化硅粉体 [J], 冷光荣; 徐柏辉

4.二氧化硅含量对聚酰亚胺/二氧化硅纳米杂化薄膜低温(77K)拉伸性能的影响

[C], 李艳; 张以河; 付绍云